[发明专利]新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统

权利要求书

1.新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：一个离子源、一个源过滤磁铁、一个加速管、一个质量分析器、一个分析光栏、一个偏转扫描系统、一个平行束透镜、一个大倾角单片靶盘；所述的离子源产生离子并能够将离子引出形成离子束，引出的离子束由源过滤磁铁对其做预分析处理，然后进过加速管加速和聚焦，再由质量分析器和分析光栏配合使用对其做精确分析，然后通过偏转扫描系统将束斑扫描成扇形状束带，接着由平行束透镜对其做角度校准，形成平行的带状束，最后在大倾角单片靶盘处实现对晶片的离子注入。

2.如权利要求1所述的新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：所述的采用多级磁偏转筛选系统提纯所需注入离子的纯度，保证注入离子纯度，解决注入工艺超低能量污染要求；

3.如权利要求1所述的新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：所述的光路采用先加速后分析方式，保证注入离子能量精度。

4.如权利要求1所述的新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：所述的光路中设计的平行束透镜，使水平向束成高度平行的带状束，从而靶注入角度高度一致，保证注入角度精度。

5.如权利要求1所述的新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：所述的整机高能、低能注入工作兼顾设计，光路匹配传输，传输效率高。

6.如权利要求1所述的新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，其特征在于：所述的靶注片方式采用单园片式注入，束注入角度0°-60°可调。