[发明专利]强化玻璃切割方法、薄膜制程、切割预置结构及切割件无效
| 申请号: | 201010510880.9 | 申请日: | 2010-10-18 |
| 公开(公告)号: | CN102452789A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
| 发明(设计)人: | 康恒达;洪钲杰;陈永霖 | 申请(专利权)人: | 东莞联胜液晶显示器有限公司;胜华科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C03B33/00 | 分类号: | C03B33/00;C03C21/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王春光 |
| 地址: | 523808 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 强化 玻璃 切割 方法 薄膜 预置 结构 | ||
技术领域
本发明关于一种强化玻璃切割方法及强化玻璃薄膜制程,以及用于该强化玻璃切割方法的强化玻璃切割预置结构及切割后产生的强化玻璃切割件。
背景技术
公知的玻璃强化方式主要有两种,一种是热强化方式,另一种是化学离子强化方式。举例而言,于一化学离子强化过程中,待强化的玻璃基材例如可置入熔融的钾盐中,使钾离子与玻璃表层的钠离子进行离子交换,而使玻璃基材表层形成一层很薄的压应力层。如图1A及图1B所示,对应压应力层DOL,强化玻璃100内部会衍生出适当的张应力TS使整体达到力平衡。比较图1A及图1B可知,当压应力层DOL越厚(图1B的压力层厚度大于图1A的压力层厚度),强化玻璃100的强度就越强,但其内部的张应力TS就越大。因此,当张应力TS过大时,会使强化玻璃100在切割时容易不规则地裂开,导致一极低的切割良率。
当欲使用这种离子强化玻璃来制作产品时,为避免上述低切割良率的问题,通常的制作流程为先将一中片原始玻璃进行切割,产生具有成品尺寸与外型的半成品,再对半成品进行化学离子强化后进行其它必须的制程。换言之,该制作方式需于切割后再对每个切割单元逐一进行离子强化及产品制程,如此不仅耗费工序、工时且提高制造成本。
因此,若能先对一中片原始玻璃进行离子强化及必须的产品制程后再进行切割,即可于切割后直接形成一个个具膜层堆叠结构的产品单元。此一制程即为可节省工序及工时的“中片玻璃制程”,但对于离子强化后的中片玻璃无法实施中片玻璃制程,因为离子强化后的中片玻璃在切割时容易碎裂而导致极低的良率。
发明内容
本发明的目的是提供一种可大幅提高切割良率的强化玻璃切割方法及强化玻璃切割预置结构。
本发明的另一目的是提供一种可有效节省工序、工时及制造成本的强化玻璃薄膜制程。
为了达到上述实施目的,本发明提出了一种强化玻璃切割方法包含如下步骤:于一玻璃基材上一预定切割路径会行经的局部表面形成一屏蔽层;对玻璃基材进行离子强化处理,其中被屏蔽层覆盖的局部表面实质上不产生离子交换;及沿预定切割路径切割玻璃基材。
本发明还提出了一种强化玻璃切割预置结构,包含一经离子强化处理的玻璃基材以及至少一屏蔽层。屏蔽层形成于玻璃基材的局部表面上并实质上重合一预定切割走道,且被屏蔽层覆盖的局部表面实质上不产生离子交换。
本发明还提出了一种强化玻璃薄膜制程包含如下步骤:于一玻璃基材的预定切割走道上形成一屏蔽层;对玻璃基材进行离子强化处理;于经离子强化处理后的玻璃基材上进行一中片制程;及沿预定切割走道切割玻璃基材。
如上所述的强化玻璃薄膜制程,其中,屏蔽层形成步骤包含于玻璃基材的至少一表面上整面分布一无机材料膜;于无机材料膜上设定切割走道;及移除玻璃基材的表面上位于切割走道外的无机材料膜。
如上所述的强化玻璃薄膜制程,其中,中片制程可包含一黄光制程或一网印制程。当强化玻璃为一触控面板的基板或覆盖板(cover glass)时,中片制程例如包含如下步骤:利用一第一黄光制程形成金属走线;利用一第二黄光制程形成绝缘层;利用一第三黄光制程形成透明X轴线迹及透明Y轴线迹;及利用一网印制程形成装饰层。
如上所述的强化玻璃薄膜制程,其中,强化玻璃为一显示面板的一透明基板。
如上所述的强化玻璃薄膜制程,其中,强化玻璃薄膜制程更包含对切割后的玻璃基材的边缘进行边缘强化或外观修饰处理的步骤。边缘强化处理例如为利用一蚀刻媒介蚀刻经切割处理后的玻璃基材的边缘。
本发明另提供一种强化玻璃切割件,其是由一经离子强化处理的玻璃基材切割而成且包含彼此相对的一顶面及一底面、一切割面及一离子交换层。切割面连接于顶面及底面间,离子交换层形成于顶面及底面且实质上未形成于切割面。
如上所述的强化玻璃切割件,其中,强化玻璃切割件更包含一屏蔽层,且屏蔽层形成于顶面及底面上的邻接切割面位置处。
如上所述的强化玻璃切割件,其中,强化玻璃切割件更包含一屏蔽层,且屏蔽层实质上重合玻璃基材的一预定切割走道。
如上所述的强化玻璃切割件,其中,强化玻璃切割件更包含一装饰层,且装饰层形成于顶面及底面的至少其中之一上。装饰层例如可由类钻、陶瓷、油墨及光阻材料的至少其中之一所构成。
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