[发明专利]一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法无效

专利信息
申请号: 201010508607.2 申请日: 2010-10-15
公开(公告)号: CN102030315A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 胡俊青;陈海华;陈辉辉;王娜;邹儒佳;余利;张震宇 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04;B82Y40/00
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达;谢文凯
地址: 201620 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 采用 水热法 基底 制备 纳米 cu sub se 阵列 方法
【权利要求书】:

1.一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,包括:

(1)将铜基底放入10~40wt%浓盐酸中浸泡1秒钟~10分钟,用去离子水洗涤表面,再将其在有机溶剂A中超声洗涤1分钟~1小时,烘干后备用;

(2)将硒粉按摩尔比1∶1~1∶5超声溶解在氢氧化钠或氢氧化钾溶液中,,得到硒粉氢氧化钠或氢氧化钾溶液;

(3)将经步骤(1)处理后的铜基底与步骤(2)得到的溶液混合于容器中,加入1~20ml生长导向剂,然后添加去离子水或有机溶剂B至容器体积的4/5~24/25,于20~200℃反应0.5~50小时;待反应结束,取出铜基底,用乙醇洗涤,干燥后,即得到在铜基底上的纳米Cu2-xSe阵列。

2.根据权利要求1所述的一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,其特征在于:所述步骤(1)中的铜基底表面需打磨,有机溶剂A为乙醇、丙酮或乙醚。

3.根据权利要求1所述的一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,其特征在于:所述步骤(2)中的氢氧化钠或氢氧化钾溶液浓度为1×10-3~20mol/L。

4.根据权利要求1所述的一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,其特征在于:所述步骤(3)中的生长导向剂为聚乙二醇、PVP、氨水、乙二胺、聚乙烯醇中的一种或几种,浓度为1×10-4~5mol/L。

5.根据权利要求1所述的一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,其特征在于:所述步骤(3)中的有机溶剂B为甲醇、乙醇、乙二醇、丙三醇中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的一种采用水热法在铜基底上制备纳米Cu2-xSe阵列的方法,其特征在于:所述得到的纳米Cu2-xSe阵列形貌为一维或二维。

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