[发明专利]运送式基板处理装置中的节水型清洗系统

权利要求书

1.一种运送式基板装置中的节水型清洗系统，该系统设置于运送式基板装置中，通过清洗水对化学液处理后的基板进行清洗处理，其特征在于：

包括：多个清洗区，其沿基板运送方向排列于化学液处理区的下游侧；桨处理用的清洗机构，其设置于最上游侧的清洗区；分别设置于第2级以后的清洗区的喷淋处理用的清洗机构和回收使用后的清洗水的箱；供水系统，其将由未使用的纯水形成的清洗水，供向最下游侧的清洗区中的清洗机构；阶梯方式的送水系统，其将各箱内的清洗水依次送给上游侧的清洗区中的清洗机构；排水系统，其将在最上游侧的清洗区的使用完的清洗水排出；

按照下述方式设定来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出开始时刻和排出结束时刻，该方式为：在基板前端进入最上游侧的清洗区的时刻之前，开始来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出，在基板后端与该清洗区脱离的时刻之后，停止来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出，并且确保将从最上游侧的清洗区中的清洗机构排出的清洗水的污染度维持在允许限度内，且在该限度附近所必需的清洗水的排出时间。

2.根据权利要求1所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于即使在基板后端与最上游侧的清洗区脱离的时刻之后，仍继续排出，通过该延长排出时间的调整，从最上游侧的清洗区中的清洗机构排出的清洗水的污染度控制在所需值。

3.根据权利要求1或2所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于在第2级的清洗区内，在该清洗区中的喷淋处理用的清洗机构的下游侧，设置桨处理用的清洗机构，其按照高于设置于最上游侧的清洗区的桨处理用的清洗机构的压力，排出清洗水。

4.根据权利要求3所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于来自最上游侧的清洗区中的桨处理用的清洗机构的清洗水的排出压力在0.08～0.1MPa的范围内，来自设置于第2级的清洗区中的桨处理用的清洗机构的清洗水的排出压力在0.3～0.4MPa的范围内。

5.根据权利要求3或4所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于从设置于第2级的清洗区的桨处理用的清洗机构之下通过的基板速度小于从设置于最上游侧的清洗区的桨处理用的清洗机构之下通过的基板速度。

6.根据权利要求5所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于从设置于第2级的清洗区的桨处理用的清洗机构之下通过的基板速度与设置于多个清洗区的下游侧的干燥区内的气刀的干燥处理中的基板运送速度相同。

7.根据权利要求5或6所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于第2级的清洗区中的喷淋处理区域兼作基板速度调整区域。

8.根据权利要求3～7中的任何一项所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于设置于第2级的清洗区中的桨处理用的清洗机构的清洗水的供给比例在该清洗区整体的清洗水的供给量为1时，在0.5～0.8的范围内。

9.根据权利要求3～8中的任何一项所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于第3级的清洗区为最终清洗区。

10.根据权利要求1～9中的任何一项所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于在桨处理用的清洗机构由第1喷嘴排和第2喷嘴排组合形成，在该第1喷嘴排中，呈三角形的膜状排出清洗水，呈直线状而吹到基板表面上的平型的喷雾嘴沿与基板运送线相垂直的线横宽方向排列，各喷雾嘴的基板表面上的直线状喷雾图案相对线横宽方向，沿相同方向而按照规定角度倾斜，在该第2喷嘴排中，在第1喷嘴排的下游侧，上述平型的喷雾嘴沿线横宽方向排列，来自各喷雾嘴的液膜伴随规定的重叠而沿上述横向宽度方向连续，形成横向宽度方向的全部区域的幕状的液膜。

11.根据权利要求1～10中的任何一项所述的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统，其特征在于在回收从最上游到第2级清洗区使用后的清洗水的箱内，组合有检测该箱内的清洗水的污染度的水质传感器。