[发明专利]测距方法、测距系统与其处理方法

权利要求书

1.一种测距系统，其特征在于，其包括：

一个光源模组，向在多个位置点上的参考平面和一个待测物投射具有一斑点图样的面光源，使得每一该些位置点上的参考平面和该待测物朝向该光源模组的表面呈现该斑点图样的影像，其中该斑点图样具有多个斑点；

一个影像撷取装置，撷取各该位置点的参考平面上所呈现的斑点图样的影像，而产生多个参考影像信息，并撷取该待测物上所呈现的斑点图样的影像，而产生一个待测影像信息；以及

一个处理模组，耦接该影像撷取装置，以将该些参考影像信息和该待测影像信息进行比对，而获得多个比对结果，且该处理模组更将该些比对结果进行内插法的运算，以计算出该待测物的位置。

2.根据权利要求1所述的测距系统，其特征在于该光源模组包括：

激光光源，发射激光光束；以及

一个扩散元件，放置在该激光光束行进的路径上，以接受该激光光束，且该激光光束在该扩散元件中会发生干涉现象和绕射现象，而产生该面光源。

3.根据权利要求1所述的测距系统，其中每一个该些位置点与下一个位置点的距离皆相同。

4.一种测距方法，其特征在于，其包括下列步骤：

投射具有斑点图样的面光源到多个位置点上的参考平面和一个待测物上，以使该些位置点上的参考表面和该待测物朝向该面光源的表面上呈现该斑点图样的影像，而该斑点图样具有多个斑点；

撷取每一个该些位置点上的参考平面上的斑点图样的影像，以获得多个参考影像信息；

撷取该待测物上的斑点图样的影像，以获得待测影物像信息；

比较该些参考影像信息和该待测影像信息而获得多个比对结果；以及

将该些比对结果进行内插法运算，而计算出该待测物的位置。

5.根据权利要求4所述的测距方法，其特征在于，获得该些比对结果的步骤，包括将该待测影像信息分别与该些参考影像信息进行比对，而获得多个相似度值，当作该些比对结果。

6.根据权利要求5所述的测距方法，其特征在于，进行该内插法运算的步骤包括下列步骤：

找出该些相似度值中最高的至少两个；以及

将该些最高的相似度值之间的比例进行该内插法运算，而计算出该待测物的位置。

7.根据权利要求4所述的测距方法，其中获得该些比对结果的步骤包括下列步骤：

比较每一该些斑点分别在各该位置点的参考平面上的位置，而获各该斑点的多个位移向量；以及

将该待测物影像信息分别与该些参考影像信息比对，以依据每一个该些斑点的位移向量，而计算出该待测物的多个估测位置，并将该些估测位置当作该些比对结果。

8.根据权利要求4所述的测距方法，其特征在于，更包括下列步骤：

将该些斑点的亮度进行正规化的处理，以去除环境亮度的影响；

依据每一个该些斑点在不同位置点的参考平面上的亮度，而计算出各斑点在该些参考影像信息中的位置；以及

将在该待测物影像信息中每一个该些斑点的位置，与该些参考影像信息中各斑点的位置进行比对，而获得该些比对结果。

9.根据权利要求4所述的测距方法，更包括下列步骤：

比对每一个该些斑点与周围斑点的亮度关系，而建立各斑点的亮度信息；

依据该些亮度信息，而计算出各斑点在该些参考影像信息中的位置；以及

将在该待测物影像信息中每一该些斑点的位置，与该些参考影像信息中各斑点的位置进行比对，而获得该些比对结果。

10.一种处理方法，应用在测距系统中解析待测物的位置，其特征在于，该处理方法包括执行下列步骤：

接收多个参考影像信息，是由在多个位置点上的参考平面反射一个面光源所投射的斑点图样而呈现的影像，而该斑点图样具有多个斑点；

接收一个待测影像信息，是一个待测物朝向该面光源的表面上所呈现该斑点图样的影像；

比较该待测物影像信息和该些参考影像信息，而获得多个比对结果；以及

将该些比对结果进行内插法运算，而计算出该待测物的位置。