[发明专利]涂覆设备和其涂覆方法以及利用该设备形成有机层的方法

说明书

技术领域

示例实施例涉及能够提供具有基本均匀的厚度的层的一种涂覆设备、该涂覆设备的涂覆方法和利用该涂覆设备形成有机层的方法。

背景技术

信息通信产业已经快速地发展，显示装置的应用也广泛地增加。最近，需要可以确保低功耗、轻重量、薄厚度和高分辨率的显示装置，例如，平板显示装置。

例如，平板显示装置，例如，液晶显示(LCD)装置和有机发光二极管(OLED)显示装置可包括发射区域和形成在相对的两个基底之间的薄膜晶体管(TFT)。为了保护发射区域不受外部湿气、氧气等的影响，可将密封材料施加到发射区域的外围，以粘附两个基底，由此封装发射区域。

平板显示装置可具有多层结构，其中，各个层，例如，有机层、无机层和金属层可被沉积，以形成发射区域和TFT。例如，有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)显示装置可包括一种如下所述的结构，所述结构中沉积有缓冲层、半导体层、栅极绝缘层、栅电极、中间绝缘层、源/漏电极、保护层、平坦层(planarization layer)、像素限定层、下电极、包括有机层的有机发射层、上电极等。进一步，有机发射层可包括在下电极和有机层之间的空穴传输层和空穴注入层，并且还可包括在上电极和有机层之间的电子传输层和电子注入层。

平板显示器中的各个层可通过在沉积的层(例如，有机层、中间绝缘层、空穴注入层等)之间施加液晶涂覆材料来形成。可干燥液晶涂覆材料以完成层。

发明内容

实施例指向一种显著解决了由于现有技术的限制和缺点所引起的一个或多个问题的涂覆设备和其涂覆方法、以及利用该设备形成有机层的方法。

因此，实施例的特征在于提供一种形成具有基本均匀的厚度的层的涂覆设备。

因此，实施例的另一特征在于提供一种利用用于形成具有基本均匀的厚度的层的涂覆设备的涂覆方法。

实施例的又一特征在于提供一种利用能够形成具有基本均匀的厚度的层的涂覆设备来形成有机层的方法。

上述及其他特点和优点中的至少一个可通过提供一种涂覆设备来实现，所述涂覆设备包括：台，所述台上安装涂覆目标；涂覆部件，安装在所述台上并将涂覆材料施加到涂覆目标上；加热源，与所述台相对并与所述台隔开，在将涂覆材料施加到涂覆目标上之后将热供应到涂覆目标。

加热源可与整个涂覆目标重叠，加热源被配置成同时地且均匀地将热供应到整个涂覆目标。加热源可以是红外加热器或卤素灯。加热源可以是卤素灯，加热源还包括反射板。加热源可朝所述台竖直地可移动。加热源可与所述台完全分离。涂覆部件可包括：可移动的支撑框架，位于所述台上；排出部件，位于可移动的支撑框架上，排出部件在与可移动的支撑框架的移动方向垂直的方向上可移动并被配置成排出涂覆材料。支撑框架可包括：第一支撑框架，彼此隔开预定距离且彼此相对，并具有预定高度；第二支撑框架，具有设置在第一支撑框架上的两端并横跨第一支撑框架。第二支撑框架可位于第一支撑框架上并被配置成朝着所述台竖直地移动。排出部件可包括：可移动的涂覆头，被配置成沿着第二支撑框架的纵向方向移动；管嘴，位于涂覆头中并被配置成排出所述涂覆材料。所述涂覆设备还可包括室，所述台在所述室的下部，所述加热源在所述室的上部。

上述及其他特点和优点中的至少一个还可通过提供一种涂覆方法来实现，所述涂覆方法包括：将涂覆目标定位在涂覆设备中的台上；利用涂覆部件将涂覆材料施加到涂覆目标上；当涂覆材料被完全施加时，使用涂覆设备中的加热源将热供应到涂覆材料，以干燥涂覆材料。

将热供应到涂覆目标的步骤可包括：将均匀的热同时供应到整个涂覆目标。施加涂覆材料的步骤可包括：施加有机发射材料、有机薄膜晶体管材料和/或太阳能电池材料。将热供应到涂覆目标的步骤可包括：在大约100℃到大约200℃的温度下干燥涂覆材料。将热供应到涂覆目标的步骤可包括：使用红外加热器或卤素灯。

上述及其他特点和优点中的至少一个还可通过提供一种形成有机层的方法来实现，所述形成有机层的方法包括：利用涂覆部件将有机材料施加到位于涂覆设备中的台上的基底上；在施加有机材料之后，利用涂覆设备中的加热源将热供应到有机材料并干燥所述有机材料，以形成有机层。

施加有机材料的步骤可包括：施加用于形成有机发光二极管的发射层、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和/或电子传输层的材料。将热供应到有机材料的步骤可包括：在大约100℃到大约200℃的温度下干燥有机材料。将热供应到有机材料的步骤包括：将均匀的热同时供应到整个基底，以干燥所述有机材料。

附图说明