[发明专利]电致发光装置的发光单元及其制造方法有效
申请号: | 201010502692.1 | 申请日: | 2010-09-30 |
公开(公告)号: | CN102024912A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 王惠珺;陈介伟;方俊雄 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 姜燕;陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电致发光 装置 发光 单元 及其 制造 方法 | ||
1.一种电致发光装置的发光单元,包括:
一第一电极层,位于一基板上,其中该第一电极层的顶部的含氧量高于该第一电极层的底部的含氧量;
一发光层,位于该第一电极层上;以及
一第二电极层,位于该发光层上。
2.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层中的含氧量是从其底部往顶部逐渐增加。
3.如权利要求2所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层中的含氧量是从其底部往顶部以阶梯形式、直线形式或是曲线形式增加。
4.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,其中靠近该发光层的该第一电极层的含氧量大于靠近该基板的该第一电极层的含氧量。
5.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层的电阻率从其底部往顶部的变化为1.5×10-4Ω·cm至5000Ω·cm。
6.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层的含氧量从其底部往顶部的变化为50mol%~70mol%。
7.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,还包括一电源线,位于该基板上,该第一电极层与该电源线电性连接。
8.如权利要求7所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层的边缘与该电源线的边缘为重叠或是直接连接在一起。
9.如权利要求1所述的电致发光装置的发光单元,其中该第一电极层包括金属氧化物。
10.一种电致发光装置的发光单元的制造方法,包括:
在一基板上形成一电源线;
在该基板上形成一第一电极层,该第一电极层与该电源线电性连接,其中形成该第一电极层包括进行一沉积程序,该沉积程序包括通入氧气,且所通入的氧气的量随着该沉积程序的时间而增加;
在该第一电极层上形成一发光层;以及
在该发光层上形成一第二电极层。
11.如权利要求10所述的电致发光装置的发光单元的制造方法,其中该沉积程序包括还包括通入一惰性气体,且氧气与该惰性气体的流量比例随着该沉积程序的时间从1∶10增加至1∶1。
12.如权利要求11所述的电致发光装置的发光单元的制造方法,其中该惰性气体包括氩气、氦、氖、氩、氪、氙、氡或是其组合。
13.如权利要求10所述的电致发光装置的发光单元的制造方法,其中该第一电极层的边缘与该电源线的边缘为重叠或是直接连接在一起。
14.如权利要求10所述的电致发光装置的发光单元的制造方法,其中在形成该第一电极层之后无须进行一紫外光-臭氧处理程序。
15.如权利要求10所述的电致发光装置的发光单元的制造方法,其中该第一电极层包括金属氧化物。
16.一种电致发光装置的发光单元,包括:
一第一电极层;
一第二电极层,具有一顶部以及一底部;以及
一发光层,位于该第一电极层以及该第二电极层之间,其中该顶部与该发光层的距离小于该底部与该发光层的距离,且该顶部的含氧量高于该底部的含氧量。
17.如权利要求16所述的电致发光装置的发光单元,其中该第二电极层中的含氧量是从其底部往顶部逐渐增加。
18.如权利要求16所述的电致发光装置的发光单元,其中该第二电极层中的含氧量是从其底部往顶部以阶梯形式、直线形式或是曲线形式增加。
19.如权利要求16所述的电致发光装置的发光单元,其中该第二电极层的电阻率从其底部往顶部的变化为1.5×10-4Ω·cm至5000Ω·cm。
20.如权利要求16所述的电致发光装置的发光单元,其中该第二电极层为阳极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择