[发明专利]用于茂金属催化剂组合物的二氧化硅涂敷的氧化铝活化剂-载体有效
申请号: | 201010293624.9 | 申请日: | 2010-09-26 |
公开(公告)号: | CN102020729A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | M·P·麦克丹尼尔;杨清;R·S·姆宁尔;E·A·本哈姆;K·S·柯林斯 | 申请(专利权)人: | 切弗朗菲利浦化学公司 |
主分类号: | C08F4/02 | 分类号: | C08F4/02;C08F10/00;C08L23/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;张全信 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 金属催化剂 组合 二氧化硅 氧化铝 活化剂 载体 | ||
1.一种催化剂组合物,其包含:
(a)至少一种过渡金属化合物或茂金属化合物;和
(b)至少一种活化剂-载体;
其中所述至少一种活化剂-载体包含用至少一种吸电子阴离子处理的至少一种二氧化硅涂敷的氧化铝,其中:
所述至少一种二氧化硅涂敷的氧化铝具有约1∶1-约100∶1的氧化铝与二氧化硅的重量比,以及
所述至少一种吸电子阴离子包括氟根、氯根、溴根、磷酸根、三氟甲磺酸根、硫酸氢根、硫酸根或其任意组合。
2.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述氧化铝与二氧化硅的重量比为约2∶1-约20∶1。
3.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述至少一种活化剂-载体包括用至少两种吸电子阴离子处理的至少一种二氧化硅涂敷的氧化铝,并且其中所述至少两种吸电子阴离子包括氟根和磷酸根、氟根和硫酸根、氯根和磷酸根、氯根和硫酸根、三氟甲磺酸根和硫酸根或三氟甲磺酸根和磷酸根。
4.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述至少一种二氧化硅涂敷的氧化铝具有约100-约1000m2/g的表面积,大于约0.5mL/g的孔体积,和约5微米-约150微米的粒度。
5.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述至少一种二氧化硅涂敷的氧化铝通过包括下列的方法产生:
提供至少一种氧化铝源,所述至少一种氧化铝源包括氧化铝、水合氧化铝、氢氧化铝、勃姆石,或其组合;
将所述至少一种氧化铝源与包含至少一种溶剂和至少一种能够在煅烧时产生二氧化硅的含硅化合物的溶液或悬浮液接触;
将所述至少一种含硅化合物的涂层沉积在所述至少一种氧化铝源的至少一部分上;以及
去除所述溶剂。
6.如权利要求1所述的催化剂组合物,进一步包含至少一种具有下式的有机铝化合物:
Al(X9)m(X10)3-m;
其中:
X9是烃基;
X10是烷氧基或芳氧基、卤根或氢负离子;和
M是1-3,包括1和3。
7.如权利要求1所述的催化剂组合物,进一步包含至少一种任选的助催化剂,其中所述至少一种任选的助催化剂是至少一种铝氧烷化合物、至少一种有机硼或有机硼酸盐化合物、至少一种离子化离子化合物或其任意组合。
8.如权利要求1所述的催化剂组合物,进一步包含至少一种任选的活化剂-载体,其中所述至少一种任选的活化剂-载体是氟化的氧化铝、氯化的氧化铝、溴化的氧化铝、硫酸化的氧化铝、氟化的二氧化硅-氧化铝、氯化的二氧化硅-氧化铝、溴化的二氧化硅-氧化铝、硫酸化的二氧化硅-氧化铝、氟化的二氧化硅-氧化锆、氯化的二氧化硅-氧化锆、溴化的二氧化硅-氧化锆、硫酸化的二氧化硅-氧化锆、氟化的二氧化硅-二氧化钛或其任意组合。
9.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述催化剂组合物的催化剂活性为在淤浆聚合条件下,使用异丁烷作为稀释剂,采用90℃的聚合温度和420psig的反应器压力,每克活化剂-载体每小时大于约1000克聚乙烯。
10.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述催化剂组合物的催化剂活性为在淤浆聚合条件下,使用异丁烷作为稀释剂,采用90℃的聚合温度和420psig的反应器压力,每克过渡金属化合物或茂金属化合物每小时大于约25,000克聚乙烯。
11.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述至少一种过渡金属化合物或茂金属化合物包括柄型茂金属化合物。
12.如权利要求1所述的催化剂组合物,其中所述至少一种过渡金属化合物或茂金属化合物包括非桥联茂金属化合物。
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