[发明专利]真空蒸镀用镀材舟及真空蒸镀系统

权利要求书

1.一种蒸镀用镀材舟，其特征在于，包含：

一镀材容器，用以容纳镀材，并具有一开口；

一盖板，设置于该镀材容器的开口上方并与该镀材容器保持一预定间隙，且该盖板的垂直投影面覆盖该镀材容器的该开口，使该镀材汽化后所产生的镀材蒸气经由该预定间隙发散至该镀材舟外部时，通过该盖板控制该镀材蒸气的发散范围；以及

一支撑构件，连接该镀材容器及该盖板，以维持其二者间的预定间隙。

2.如权利要求1所述的蒸镀用镀材舟，其特征在于，该盖板由钨、钼、钽或导电性陶瓷所制成。

3.如权利要求1或2所述的蒸镀用镀材舟，其特征在于，该镀材容器具有碟形结构或碗形结构。

4.如权利要求1或2所述的蒸镀用镀材舟，其特征在于，该预定间隙介于1mm至10mm之间。

5.如权利要求1或2所述的蒸镀用镀材舟，其特征在于，该镀材容器的宽度介于3mm至10mm之间，且该盖板的宽度介于3mm至10mm之间。

6.如权利要求1或2所述的蒸镀用镀材舟，其中该支撑构件具有一分隔片，通过更换不同厚度的分隔片，来调整该镀材容器与该盖板之间的该预定间隙。

7.一种真空蒸镀系统，其特征在于，包含

一真空腔室，用以提供真空环境；

一工件架，设置于该真空腔室内，用以支持被镀物；

一镀材舟，设置于该真空腔室内，并位于该工件架的侧边，该镀材舟包含：

一镀材容器，用以容纳镀材，并具有一开口；

一盖板，设置于该镀材容器的开口上方并与该镀材容器保持一预定间隙，且该盖板的垂直投影面覆盖该镀材容器的该开口，使该镀材汽化后所产生的镀材蒸气经由该预定间隙发散至该被镀物上，并通过该盖板控制该镀材蒸气的发散范围；以及

一支撑构件，连接该镀材容器及该盖板，以维持其二者间的预定间隙。

8.如权利要求7所述的真空蒸镀系统，其特征在于，该镀材舟的该盖板由钨、钼、钽或导电性陶瓷所制成。

9.如权利要求7或8所述的真空蒸镀系统，其特征在于，该镀材容器具有碟形结构或碗形结构。

10.如权利要求7或8所述的真空蒸镀系统，其特征在于，该预定间隙介于1mm至10mm之间。

11.如权利要求7或8所述的真空蒸镀系统，其特征在于，该镀材容器的宽度介于3mm至10mm之间，且该平面盖板的宽度介于3mm至10mm之间。

12.如权利要求7或8所述的真空蒸镀系统，其特征在于，该支撑构件具有一分隔片，通过更换不同厚度的分隔片，来调整该镀材容器与该盖板之间的该预定间隙。