[发明专利]图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201010286772.8 申请日: 2010-09-16
公开(公告)号: CN102023513A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 宗和健;井熊健 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;张彬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种图像形成装置,其使用曝光头将像载体曝光,该曝光头通过光学系统将来自发光元件的光成像。

背景技术

专利文献1所记载的图像形成装置中,具有发光元件和成像光学系统的曝光头(该文献中的行式头)以与像载体对置的方式而配置,当成像光学系统将来自发光元件的光成像时,在像载体(的表面)上将形成光点。并且,通过由曝光头在与图像数据对应的位置上适当地形成光点,从而能够在像载体的表面上形成规定的潜像。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-221790号公报

发明内容

本发明所要解决的课题

另外,在上述这种图像形成装置中,光学系统的光的成像位置和像载体的距离非常重要。这是因为,如果二者之间的距离过大,则通过光学系统在像载体上形成的光点将会模糊不清,从而有可能无法形成良好的潜像。因此,为了使光学系统的光的成像位置位于像载体(的表面)附近,需要一种对曝光头和像载体进行定位的技术。

本发明是鉴于上述课题而实施的发明,其目的在于,提供一种技术,能够对曝光头和像载体进行定位,以使光学系统的光的成像位置位于像载体的附近,从而可通过曝光头形成良好的潜像。

解决课题的方法

为了达成上述目的,本发明提供一种图像形成装置,其特征在于,具有;曝光头,其包括:发光元件,所述发光元件发射具有第1波长以及第2波长的光;光学系统,所述光学系统具有第1透镜面和第2透镜面,发光元件发射的光被入射到第1透镜面,而且被入射到第1透镜面的光从第2透镜面出射,所述曝光头通过光学系统,将第1波长的光成像在第1成像位置,并将第2波长的光成像在于光学系统的光轴方向上与第1成像位置不同的第2成像位置;潜像载体,从曝光头的第2透镜面出射的光照射到所述潜像载体,从而形成潜像;支承部,其支承曝光头;利用支承部来支承曝光头,以使曝光头和潜像载体具有以下关系:d1<di<d2,

其中,

d1表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述第1成像位置之间的距离;

d2表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述第2成像位置之间的距离;

di表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述潜像载体之间的距离。

在以上述方式构成的图像形成装置中,设有具备第1透镜面以及第2透镜面的光学系统、和发光元件,从发光元件发射并入射进第1透镜面的光从第2透镜面出射,并照射到像载体。此外,本发明的发光元件为,发射具有第1波长以及第2波长的光的元件,光学系统将各波长的光成像在于光轴方向上不同的位置(第1成像位置以及第2成像位置)。而且,支承部对具有以上述方式构成的光学系统的曝光头和像载体进行支承,以满足以下的关系:d1<di<d2。

其中,

d1表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述第1成像位置之间的距离;

d2表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述第2成像位置之间的距离;

di表示在所述光轴方向上的所述第2透镜面和所述潜像载体之间的距离。

即,该图像形成装置中,曝光头相对于像载体被定位,以使像载体(的表面)位于第1成像位置和第2成像位置之间。而且,通过以这种方式将曝光头相对于像载体进行定位,能够使光学系统中两个成像位置(第1以及第2成像位置)中的至少一个位于像载体(的表面)附近。而且,通过将成像于所述像载体附近的成像位置上的光,用于像载体上的光点的形成,从而能够通过模糊较少的光点而形成良好的潜像。

此外,曝光头可以具有发射光的第2发光元件和将第2发光元件发射的光进行成像的第2光学系统。另外,此时,也可以将曝光头构成为,使通过第2光学系统而成像的光的成像位置,位于光轴方向上的第1成像位置和第2成像位置之间。即,在本发明中,曝光头相对于像载体而被定位,以使光学系统的两个成像位置(第1以及第2成像位置)中的至少一个位于像载体(的表面)的附近。因此,当使通过第2光学系统而成像的光的成像位置,位于光轴方向上的第1成像位置和第2成像位置之间时,能够使通过第2光学系统而成像的光的成像位置位于像载体(的表面)的附近。其结果为,能够通过曝光头而形成良好的潜像。

另外,所谓的第1成像位置和第2成像位置的范围以内是指,包含第1成像位置以及第2成像位置在内的、第1成像位置和第2成像位置之间的区间。

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