[发明专利]一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚

权利要求书

1.一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，其特征在于：包括基体(1)、中间过渡层(2)、第二中间层(3)和内表面涂层(4)，所述基体(1)的内壁设有中间过渡层(2)，中间过渡层(2)上设有第二中间层(3)，第二中间层(3)上设有内表面涂层(4)。

2.根据权利要求1所述一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，其特征在于：所述中间过渡层(2)厚度为200-500μm之间，中间过渡层(2)的材料是硅。

3.根据权利要求1所述一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，其特征在于：所述第二中间层(3)厚度为50-100μm之间，第二中间层(3)的材料是二氧化硅和氮化硅。

4.根据权利要求1所述一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，其特征在于：所述内表面涂层(4)厚度为200-500μm之间，内表面涂层(4)的材料是氮化硅、二氧化硅和硅。