[发明专利]一种对准系统有效
申请号: | 201010286110.0 | 申请日: | 2010-09-17 |
公开(公告)号: | CN102402140A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 杜聚有 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 对准 系统 | ||
1.一种对准系统,包括:
光源模块,提供对准系统所需的对准光束,所述对准光束至少具有两个传播方向;
光学条纹形成装置,接收上述不同方向的对准光束,形成第一光学条纹;
光学模块,接收上述第一光学条纹,形成具有和下述对准标记相同的周期和方向的第二光学条纹,并接收所述第二光学条纹照射到下述对准标标记后形成的衍射光束;
对准标记,具有一定的周期,至少向两个方向排列,其能接收第二光学条纹,并使其发生衍射;
光电探测器,设置在光学模块和光学条纹形成装置之间,接收并测量上述第二光学条纹经上述对准标记衍射后的光束的强度,利用光强变化反映的位相信息确定对准位置。
2.根据权利要求1所述的一种对准系统,其特征在于:所述光学模块为具有远心光路的透镜结构。
3.根据权利要求2所述的一种对准系统,其特征在于:所述光电探测器设置在所述透镜结构的频谱面上。
4.根据权利要求1所述的一种对准系统,其特征在于:所述光学条纹形成装置为半透半反平板或振幅光栅。
5.根据权利要求4所述的一种对准系统,其特征在于:所述半透半反平板厚度和倾斜角度满足如下公式
其中d为第二光学条纹周期,f为光学模块焦距,λ为照明光束波长,N为半反半透平板的折射率,h为半反半透平板厚度,θ为半反半透平板相对照明光束所在平面的倾斜角度。
6.根据权利要求1所述的一种对准系统,其特征在于:所述对准光束具有两个相互垂直的传播方向。
7.根据权利要求6所述的一种对准系统,其特征在于:所述对准标记具有至少一组相互垂直的相位光栅,光学条纹照射到对准标记上后在互相垂直的两个方向上形成衍射光束,在对准标记与对准系统相对运动的过程中,利用探测器阵列测量相互垂直的两个方向上的衍射光束的强度,利用光强变化反映的位相信息确定对准位置,当光强最大时即为对准位置。
8.根据权利要求1-7中任意一个所述的对准系统,其特征在于:所述衍射光束具有一个以上衍射级次,每个衍射级次对应至少两个相同的扫描信号,这两个扫描信号相互矫正,合并形成一个矫正后的扫描信号。
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