[发明专利]一种建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法

权利要求书

1.一种建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述方法包括：

利用图形编辑器输入器件的物理图形，在所述物理图形上标出图形及图形之间的设计规则参数、器件参数与图形的对应关系和选项区域；

扫描所述物理图形，确定基本物理图形之间的位置关系和位置依赖关系；

根据所述基本物理图形之间的位置关系和位置依赖关系，建立各基本物理图形的生成顺序和程序流程，生成程序。

2.如权利要求1所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述方法还包括添加图形坐标重定位程序，具体包括：遍历器件物理版图的所有基本物理图形，计算得到横、纵坐标最小的坐标点；将所述器件物理版图的参考原点平移到所述横、纵坐标最小的坐标点。

3.如权利要求1或2所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述确定基本物理图形之间的位置关系的步骤具体包括：

根据各个基本物理图形的面积大小关系，确定各个基本物理图形之间的包围关系；

对所述基本物理图形进行无障碍图形和有障碍图形阵列分析；

对所述基本物理图形进行左右顺序关系和上下顺序关系分析。

4.如权利要求3所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述对所述基本物理图形进行无障碍图形阵列分析的步骤具体包括：

根据基本物理图形之间的上下和/或左右间距一致性，将基本物理图形聚合为一个或若干个一维或二维阵列图形；

根据所述一维或二维阵列图形的延展方向，确定无障碍图形阵列的图形数；

建立所述一维或二维阵列图形的间距与设计规则参数和器件参数之间的关系。

5.如权利要求4所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述根据一维阵列图形的延展方向，确定无障碍图形阵列的图形数的步骤具体为：所述一维阵列图形延展方向的图形数＝(对应延展方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距)/(阵列图形在延展方向的几何尺寸+设计规则允许的阵列图形最小间距)。

6.如权利要求5所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述建立所述一维阵列图形的间距与设计规则参数和器件参数之间的关系的步骤具体为：所述一维阵列图形之间的间距值＝(对应延展方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距-阵列图形在该方向的几何尺寸×对应方向的图形数)/(对应方向的图形数-1)。

7.如权利要求4所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述根据所述二维阵列图形的延展方向，确定无障碍图形阵列的图形数的步骤具体为：所述二维阵列图形在X方向的图形数＝(对应X方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距)/(阵列图形在X方向的几何尺寸+设计规则允许的阵列图形最小间距)，所述二维阵列图形在Y方向的图形数＝(对应Y方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距)/(阵列图形在Y方向的几何尺寸+设计规则允许的阵列图形最小间距)。

8.如权利要求7所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述建立二维阵列图形的间距与设计规则参数和器件参数之间的关系的步骤具体为：所述二维阵列图形之间X方向的间距值＝(对应X方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距-阵列图形在X方向的几何尺寸×X方向的图形数)/(X方向的图形数-1)，所述二维阵列图形之间Y方向的间距＝(对应Y方向的器件参数-2×阵列图形和外包图形之间的间距-阵列图形在Y方向的几何尺寸×Y方向的图形数)/(Y方向的图形数-1)。

9.如权利要求3所述的建立参数化器件物理版图单元生成程序的方法，其特征在于，所述对所述基本物理图形进行左右顺序关系分析的步骤具体包括：

确定所述基本物理图形的对齐方式，所述对齐方式包括上边界垂线对齐、中心水平线对齐、下边界垂线对齐和上下无对齐；

以阵列点图形的最小外接矩形其左下角的点坐标值作为该阵列点的左边界坐标值，根据左边界坐标值中X坐标值的大小关系确定阵列图形之间的左右顺序关系，X坐标值小的阵列点在左，X坐标值大的阵列点在右。