[发明专利]降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法

权利要求书

1.一种降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法，用于曝光单元四周设置有风车型划片槽的产品中，其特征在于：

在光刻掩膜版设计时，曝光单元四周的每个风车型划片槽内至少放置一个光刻套刻图形，其中光刻套刻图形的外框和内框对称设置在曝光单元两边的风车型划片槽内，以使所述曝光单元被重复曝光时，所述外框和内框套在一起；

通过分步重复光刻机对曝光单元进行重复曝光，在一曝光单元四周的每个边均形成由所述外框和内框套刻形成的光刻套刻图形；

测量所述光刻套刻图形，得到由光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差；

通过光刻套刻模型拟合得到相应的畸变量，然后在采用该分步重复光刻机进行每次曝光时通过光刻对准参数的补正来补偿相应的畸变量，修正所述光刻机镜头的畸变。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于：所述风车型划片槽长度大于所述曝光单元单个边长的1/2。

3.按照权利要求1所述的方法，其特征在于：所述光刻套刻图形由左右相邻或者上下相邻的两个曝光单元进行的两次曝光最终形成的，其中一次曝光形成内框，其中另一次曝光形成外框，且拼接方向为平行于划片槽。

4.按照权利要求1所述的方法，其特征在于：测量由光刻曝光单元的上下左右重合生成的4个光刻套刻图形，得到4个位置上的光刻对准偏差量。

5.按照权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于：所述光刻套刻图形为box-in-box，box-in-bar，bar-in-box或者bar-in-bar的形式。