[发明专利]液体组合物、组、液体盒、喷墨记录方法和喷墨记录装置有效
申请号: | 201010283677.2 | 申请日: | 2010-09-10 |
公开(公告)号: | CN102020888A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 玉贯有歌子;袴田慎一;山下知洋;森靖仁 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C09D11/02 | 分类号: | C09D11/02;B41J2/175;B41J2/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 组合 喷墨 记录 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及液体组合物、组(set)、液体盒、喷墨记录方法和喷墨记录装置。
背景技术
已经研究了使用有机酸的液-液反应体系用于喷墨记录方法。在使用有机酸的液-液反应体系中,在用于记录的记录介质上使含有有机酸的液体组合物与含有在酸性条件下能够聚集的着色材料的墨接触。当墨与该液体组合物接触时,墨的pH变为酸性,以致着色材料聚集。已知如果在这种体系中通过热能的作用反复喷射用强碱例如氢氧化钾对其pH进行了调节的液体组合物,可能发生喷射故障。这是因为强碱溶解加热电阻器的保护层中的金属和/或金属氧化物,例如钽和/或氧化钽,因此侵蚀该保护层。
为了防止通过热能的作用喷射的液体组合物中多价金属离子引起的保护层的侵蚀,日本专利申请公开No.2002-172847提出了如下方法,其中将含有氨基的磺酸例如牛磺酸添加到液体组合物中。
但是,本发明人发现如果将上述专利文献的方法应用于使用有机酸的液-液反应体系,在满足近年来所需的图像质量的同时防止加热电阻器的保护层的侵蚀非常困难。
发明内容
根据本发明的方面,提供与含有着色材料的墨组合使用的液体组合物,通过热能的作用从记录头喷射该液体组合物,该记录头包括加热电阻器,该电阻器具有含有金属和金属氧化物中的至少一种并且与该液体组合物接触的保护层。该液体组合物含有具有羧基和氨基的有机化合物和氧化胺化合物中的至少一种、具有羧基的有机酸和水。
由以下对示例性实施方案的说明,本发明进一步的特点将变得清楚。
具体实施方式
使用示例性实施方案对本发明的方面进一步说明。在以下说明中,可将含有有机化合物或有机酸的液体组合物表示为“含有离子”的液体组合物,因为该有机化合物或有机酸在该液体组合物中解离。
首先对加热电阻器的保护层的侵蚀机理进行详细说明。当加热含有具有羧基的有机酸和强碱例如氢氧化钾的液体组合物时,在保护层周围的液体组合物中发生如下现象。具体地,保护层周围的液体组合物中一部分具有羧基的有机酸可能由于加热电阻器的热而分解,或者可能在其分子内或在分子间脱水。例如,作为具有羧基的有机酸的戊二酸,在约150℃的温度(低于或等于加热电阻器的最大温度)下通过分子内羧基之间的脱水而缩合为戊二酸酐。因此,损失了待通过强碱中和的酸。因此,在加热电阻器的保护层的周围产生过量的来源于没有用于中和的强碱例如氢氧化钾的碱金属离子。推测过量的碱金属离子将加热电阻器的保护层中含有的至少金属或金属氧化物,例如钽或氧化钽溶解,因此侵蚀保护层。
当使用含有具有氨基的磺酸例如牛磺酸的液体组合物时,如上所述,上述专利文献中公开的方法能够防止保护层的侵蚀,但不能满足近年来所需的图像质量。其原因如下:为了高效地抑制加热电阻器的保护层中至少金属或金属氧化物的溶解,必须将相当大量的牛磺酸添加到液体组合物中。不幸的是,具有氨基的磺酸例如牛磺酸通常在水中具有低溶解性,而为了抑制加热电阻器的保护层的溶解必须增加具有氨基的磺酸的溶解性。例如,可以使液体组合物中有机酸含量减少,或者可以减少组合物中溶剂含量以增加水含量。但是,如果减少有机酸含量,不能充分地生产高质量图像(具有高光学密度(opticaldensity))。如果也减少溶剂含量,不能满足抗粘着性。因此在已知的方法中,在满足近年来所需的图像质量的同时防止加热电阻器的保护层的侵蚀非常困难。
因此,本发明人已考察了代替可能侵蚀保护层的强碱例如氢氧化钾而使用不引起加热电阻器的保护层的侵蚀的化合物的用于调节pH的体系。
发明人首先考察了作为弱碱的三乙醇胺和氨。但是,由于与添加强碱例如氢氧化钾的情况中相同的机理,加热电阻器的保护层周围过量的碱引起保护层的侵蚀。
本发明人考察了使用磷酸氢二钠,其为在水溶液中pH几乎中性的有机化合物。但是,在这种情况下,将加热电阻器的保护层侵蚀。其原因可解释如下:在低于或等于加热电阻器的最大温度的温度下将磷酸氢二钠加热分解,在加热电阻器的保护层周围的液体组合物中离析出碱金属盐即钠盐。可能地,从碱金属盐和水分子离析的氢氧离子将加热电阻器的保护层中含有的金属和金属氧化物的至少一种,例如钽或氧化钽溶解,因此侵蚀保护层。
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