[发明专利]一种制备介孔二氧化硅材料的方法

权利要求书

1.一种制备介孔二氧化硅材料的方法，其特征在于以生物发电厂的稻壳灰、冶炼企业的含SiO₂烟尘、冶金硅厂的微硅粉、天然硅藻土矿物中的一种或几种为原料，经过下列步骤：

A.将原料磨细至粒径小于200目；

B.按原料∶盐酸溶液＝1∶4～6的质量比，在步骤A所得的磨细原料中加入摩尔浓度为0.5～4mol/L的盐酸溶液，在40～60℃温度下搅拌处理2～4小时，过滤，分离出中间原料及酸浸液；

C.将步骤B所得的中间原料用水洗涤至中性，过滤、烘干；

D.按中间原料∶NaOH∶结构导向剂∶H₂O＝1∶0.2～0.5∶0.05～0.2∶150～200的摩尔比，在步骤C所得的中性干燥的中间原料中加入氢氧化钠、结构导向剂、水，混合搅拌8～24小时；

E.将步骤D的混合溶液进行水热合成或者微波合成后，调整合成液pH值10～12；

F.将步骤E的合成液烘干后，于400～800℃下焙烧2～5小时，冷却后得介孔二氧化硅材料。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤D中的结构导向剂为阳离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤D中的结构导向剂为阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂及有机辅助剂，且有机辅助剂∶阳离子表面活性剂与非离子表面活性剂之和＝0.1～0.3∶1的摩尔比。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述阳离子表面活性剂优选十六烷基三甲基溴化铵，非离子表面活性剂优选聚乙二醇辛基苯基醚。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述有机辅助剂优选乙醇或三乙醇胺。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤D的水热合成是在常规的水热反应釜内完成的，其反应温度为50～260℃，反应时间为12～72小时。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤D的微波合成是在常规的微波合成仪中完成的，其反应温度为60～95℃，反应时间为10～60分钟。