[发明专利]硅垢去除剂

说明书

技术领域：

本发明涉及一种水垢抑制剂。

背景技术：

现有的水垢抑制剂，效果不理想，生产成本高。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种使用效果好的硅垢去除剂。

本发明的技术解决方案是：

一种硅垢去除剂，其特征是：由下列重量份的成分组成：

氟化铵            5～10份

过氧化氢          1～3份

肼                1～3份

非离子表面活性剂  1～5份。

所述的硅垢去除剂，由下列重量份的成分组成：

氟化铵            7份

过氧化氢          2份

肼                1份

非离子表面活性剂  4份。

本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。

下面结合实施例对本发明作进一步说明。

具体实施方式：

实施例1：

一种硅垢去除剂，由下列重量份的成分组成：

氟化铵            7份

过氧化氢          2份

肼                1份

非离子表面活性剂  4份。

实施例2：

一种硅垢去除剂，由下列重量份的成分组成：

氟化铵            8份

过氧化氢          3份

肼                2份

非离子表面活性剂  1份。