[发明专利]磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法

权利要求书

1.一种磁控源，其特征在于，包括：

靶材；

磁控管，所述磁控管位于所述靶材之上；和

控制所述磁控管移动的扫描机构，所述扫描机构包括：

轨道，其中，所述磁控管沿所述轨道确定的方向可移动；

第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述轨道相连以驱动所述轨道在与所述靶材平行的平面上旋转；和

第二驱动机构，所述第二驱动机构相对于所述第一驱动机构独立，所述第二驱动机构驱动所述磁控管沿由所述轨道确定的方向移动。

2.如权利要求1所述的磁控源，其特征在于，所述第一驱动机构包括：

第一电机，所述第一电机通过输出轴与所述轨道相连。

3.如权利要求2所述的磁控源，其特征在于，所述第二驱动机构包括：

连杆机构，所述连杆机构的一端与所述轨道相固定，而另一端卡合在所述轨道中，其中，所述轨道与所述连杆机构的另一端在正交于所述输出轴的第二方向上彼此相对地可滑动；和

第二电机，所述第二电机与所述连杆机构相连，并驱动所述连杆机构转动以驱动所述磁控管沿由所述轨道确定的方向相对于所述输出轴平移。

4.如权利要求3所述的磁控源，其特征在于，所述连杆机构包括：

转动杆，所述转动杆的第一端固定在所述轨道的一端，所述第二电机与所述转动杆相连以驱动所述转动杆转动；和

从动杆，所述从动杆的第一端与所述转动杆的第二端可枢转地相连，所述从动杆的第二端可滑动地卡合在所述轨道中且适于与所述磁控管相连。

5.如权利要求4所述的磁控源，其特征在于，所述输出轴与所述转动杆的第一端相固定，且所述从动杆的第二端通过固定杆与所述磁控管相连。

6.如权利要求4所述的磁控源，其特征在于，还包括：

第一密封箱，所述第一密封箱容纳所述轨道和连杆机构。

7.如权利要求3所述的磁控源，其特征在于，所述连杆机构包括：

转动杆，所述转动杆的第一端固定在所述轨道的一端，所述第二电机与所述转动杆相连以驱动所述转动杆转动；和

从动杆，所述从动杆的第一端与所述转动杆的第二端可枢转地相连，所述从动杆的第二端与所述输出轴相连，且所述轨道相对于所述从动杆的第二端可滑动，其中磁控管固定在轨道的另一端。

8.如权利要求7所述的磁控源，其特征在于，磁控管通过固定杆固定在所述轨道的另一端。

9.如权利要求7所述的磁控源，其特征在于，还包括：

第二密封箱，所述第二密封箱容纳所述连杆机构以及所述轨道的一部份，所述轨道的另一部分和所述磁控管位于所述第二密封箱之外，所述第二密封箱与所述轨道之间设有密封圈。

10.如权利要求4或7所述的磁控源，其特征在于，所述轨道以第一角速度旋转，所述转动杆以第二角速度旋转，其中，所述第一角速度与所述第二角速度的比值不是整数。

11.如权利要求4或7所述的磁控源，其特征在于，所述转动杆的长度与所述从动杆的长度之比为预设值，所述预设值为在所述转动杆的长度与从动杆的长度之和固定且所述第一角速度和第二角速度固定时、靶材利用率最高时对应的转动杆的长度与从动杆的长度的比值。

12.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：

腔体；

抽气口，通过所述抽气口对所述腔体抽真空；

静电卡盘，所述静电卡盘设置在所述腔体中用于承载晶片；

磁控源，所述磁控源为根据权利要求1-11任一项所述的磁控源；和

隔离部件；

其中，所述磁控源的靶材设置在所述腔体上部，且所述隔离部件设置在靶材之上以与所述靶材限定出适于容纳去离子水的密封腔室。