[发明专利]场发射平面光源及其制备方法

权利要求书

1.一种场发射平面光源，其特征在于：包括阳极板、隔离体、阴极和光致发光的发光板，所述阳极板与发光板通过隔离体隔开相对设置，三者形成一个收容空间，所述阴极设置于该收容空间中并与所述阳极板和发光板间隔设置，所述阴极发射出电子轰击所述阳极板发光，所述阳极板发光激发所述发光板发光后复合发出白光。

2.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于：所述阳极板包括阳极基板、阳极电极、金属反射层及发光层；所述阳极电极形成于该阳极基板上，所述金属反射层形成于所述阳极电极上，所述发光层形成于所述金属反射层上；或所述金属反射层形成于该阳极基板上，所述阳极电极形成于所述金属反射层上，所述发光层形成于所述阳极电极上。

3.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于：所述阳极板包括阳极基板、阳极电极、金属反射层及发光层；所述金属反射层与所述阳极电极为同一层，所述金属反射层形成于该阳极基板上，所述发光层形成于所述金属反射层上。

4.根据权利要求2或3所述的场发射平面光源，其特征在于：所述阳极基板为玻璃或者陶瓷材质；或所述金属反射层为铝层；或所述发光层为可发射出420nm-480nm的蓝光的荧光粉层、发光薄膜层、发光玻璃层或者发光陶瓷层中的一种。

5.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于：所述阴极包括阴极基体和设置于该阴极基体上的发射体。

6.根据权利要求5所述的场发射平面光源，其特征在于：所述阴极基体为金属丝或者由金属丝制成的网格结构。

7.根据权利要求6所述的场发射平面光源，其特征在于：所述发射体为金刚石薄膜、碳纳米管、碳纳米墙、氧化铜纳米线、氧化锌纳米线、纳米棒、四角形纳米氧化锌、氧化铁纳米线中的一种。

8.根据权利要求4所述的场发射平面光源，其特征在于：所述发光板包括玻璃基板和形成于该玻璃基板上的光致发光层。

9.根据权利要求8所述的场发射平面光源，其特征在于：所述光致发光层为可吸收420nm-480nm的蓝光而发射出黄光的荧光粉层、发光薄膜层、发光玻璃层或者发光陶瓷层中的一种。

10.一种根据权利要求1至9中任意一项所述的场发射平面光源的制作方法，包括如下步骤：

在阳极基板上采用磁控溅射或蒸发方式沉积阳极电极，然后在该阳极电极表面制备金属反射层，随后在该金属反射层制备发光层，得到阳极板；

在阴极基体上采用直接生长或者涂覆的方式制备发射体，得到阴极；

在玻璃基板上采用荧光粉、发光薄膜、发光玻璃或者发光陶瓷中的一种形成光致发光层，得到发光板；

组装场发射平面光源，将制备好的阳极板放置在水平操作台上；把隔离体放置在阳极板四周，用低玻粉固定；然后将阴极固定在隔离体上，并引出电极，确保阴极与阳极板平行；随后将制备好的发光板施压在隔离体上，固定并密封好；把封装好的场发射平面光源通过排气管进行抽真空进行排气封离。