[发明专利]枝晶腐蚀低倍检验一体化方法

权利要求书

1.一种枝晶腐蚀低倍检验一体化方法，其特征在于步骤为：

（1）试样加工

首先，将被检验试样的检验面朝上，在铣、磨、抛组合机床上卡紧，用铣头铣平试样检验面；其次，用磨头磨光检验面，接着对检验面用抛光头抛光；

（2）试样腐蚀

松开铣、磨、抛组合机床上试样的卡紧螺丝，用磁力吊把试样吊到运样小车上，将小车推入试样腐蚀工位，将试样检验面用流水冲洗，并用脱脂棉擦拭干净；再用无水乙醇为清洗剂擦拭，用吹风机吹干，或用30KPa～200KPa高压风吹干；将腐蚀试剂浇蚀在检验面上，腐蚀1～2min；再用流水冲洗试样检验面，用脱脂棉擦拭干净；最后再用无水乙醇为清洗剂擦拭试样检验面，用吹风机吹干，或用30KPa～200KPa高压风吹干；

试样腐蚀工位设置自来水管和高压风管；上方设置抽毒罩；

腐蚀试剂组成成分按质量百分比为：氯化铜0.28～1.09%，氯化镁0.17～0.27%，氯化铁0.56～1.60%，盐酸1.28～1.30%，无水乙醇54.70～55.80%，余量为水；其中盐酸的质量浓度为36～38%；

（3）扫描照相

将运样小车推入扫描照相工序工位，即扫描仪的下方，调整好扫描仪玻璃板与检验面到合适位置，进行扫描照相；

（4）图像处理

将经扫描照相获得的检验图像用计算机Adobe Phtoshop软件进行图像处理，使图像清晰化便于观察；

（5）打印出图

把经过处理的图像发送给黑白激光打印机，打印出图。

2.按照权利要求1所述的枝晶腐蚀低倍检验一体化方法，其特征在于步骤（1）中，用磨头磨光检验面，粗糙度要求达到Ra≤0.8μm；对检验面用抛光头抛光，要求粗糙度达到Ra≤0.1μm，即达到镜面光洁度。

3.按照权利要求1所述的枝晶腐蚀低倍检验一体化方法，其特征在于步骤（3）中，调整好扫描仪玻璃板与检验面到合适位置，使扫描仪玻璃板与检验面之间的距离为1～10mm。

4.权利要求1所述的枝晶腐蚀低倍检验一体化方法采用的装置，其特征在于：扫描照相装置为低倍检验吊挂扫描仪照相装置，由支架、导向杆、丝杠、托架和扫描仪构成，支架为框架结构，具有四个立柱，每个立柱底部配有滚轮；框架顶部有一个支架横梁和一个支架纵梁构成的十字梁结构；扫描仪放置在托架上，丝杠和四个导向杆的底端固定在托架上；丝杠穿过支架横梁和支架纵梁相交处的中心位置，与该相交处通过螺纹连接在一起；四个导向杆分别穿过支架横梁和支架纵梁。