[发明专利]基于微器件的减摩擦防粘着纳米有机薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 201010270552.6 | 申请日: | 2010-09-02 |
| 公开(公告)号: | CN101935857A | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
| 发明(设计)人: | 康志新;赖晓明;刘应辉;方刚;邵明;李元元 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
| 主分类号: | C25D9/02 | 分类号: | C25D9/02;C10M133/40;B81C1/00 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 盛佩珍 |
| 地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 器件 摩擦 粘着 纳米 有机 薄膜 制备 方法 | ||
1.基于微器件的减摩擦防粘着纳米有机薄膜的制备方法,其特征在于:以微/纳机电系统中使用的铝、铜、镁及其合金作为基底材料,采用三电极方式的恒电流、循环伏安、恒电位有机镀膜技术制备纳米有机薄膜,具体包括以下步骤及工艺条件:
(1)配制镀膜电解质溶液
选取水溶性三氮杂嗪类有机化合物盐0.1~10mmol/l、碱性支持电解盐0.01~10mol/l,配制成镀膜用电解质溶液;
(2)镀膜处理
将经丙酮超声清洗后的基底材料,直接以三电极方式放入上述电解质溶液中进行镀膜,镀膜采用恒电流法、循环伏安法或恒电位法;
所述恒电流法镀膜,其工艺条件为电流密度为0.05~10mA/cm2,镀膜时间为5~90min,镀膜温度为20~30℃;
所述循环伏安法镀膜,其工艺条件为循环扫描速率为1~50mV/s,循环次数为3~15次,镀膜温度为5~30℃;
所述恒电位法镀膜,其工艺条件为电压0.5~1.2V vs SCE,镀膜时间为5~60min,镀膜温度为5~20℃。
2.根据权利要求1所述的基于微器件的减摩擦防粘着纳米有机薄膜的制备方法,其特征在于:所述电解质溶液使用的水溶性三氮杂嗪类有机化合物盐的单体,其具体结构如下:
结构中的R1为下列功能基团之一:
烷基类:CH3-,C2H5-,C4H9-,C6H13-,C8H17-,C10H21-,C12H25-,C4H9(C2H5)CHCH2-C4F9CH2-,C6F13CH2-,C8F17CH2-,C10F21CH2-,C4F9CH2CH2-,C6F13CH2CH2-,C8F17CH2CH2-,C10F21CH2CH2-;烯基类:CH2=CHCH2-,CH2=CH(CH2)8-,CH2=CH(CH2)9-,C8H17CH=CHC8H16-,C4F9CH2=CHCH2-,C6F13CH2=CHCH2-,C8F17CH2=CHCH2-,C10F21CH2=CHCH2-;芳基类:C6H5-,C6H5CH2-,C6H5CH2CH2-,CF3C6H4-,C4F9C6H4-,C6F13C6H4-,C8F17C6H4-,C10F21C6H4-;其它:H-;
结构中的R2为下列功能基团之一:
烷基类:CH3-,C2H5-,C4H9-,C6H13-,C8H17-,C10H21-,C12H25-,C4H9(C2H5)CHCH2-,C4F9CH2-,C6F13CH2-,C8F17CH2-,C10F21CH2-,C4F9CH2CH2-,C6F13CH2CH2-,C8F17CH2CH2-,C10F21CH2CH2-;烯基类:CH2=CHCH2-,CH2=CH(CH2)8-,CH2=CH(CH2)9-,C8H17CH=CHC8H16-,C4F9CH2=CHCH2-,C6F13CH2=CHCH2-,C8F17CH2=CHCH2-,C10F21CH2=CHCH2-;芳基类:C6H5-,C6H5CH2-,C6H5CH2CH2-,CF3C6H4-,C4F9C6H4-,C6F13C6H4-,C8F17C6H4-,C10F21C6H4-;其它:H-;
结构中的M1和M2均为下列原子之一:氢、钠、钾。
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