[发明专利]一种铜焊盘断路或残缺修补方法及其修补结构有效

专利信息
申请号: 201010269415.0 申请日: 2010-09-01
公开(公告)号: CN101945542A 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: 许秀恋;陈跃生;何华辉 申请(专利权)人: 福州瑞华印制线路板有限公司
主分类号: H05K3/10 分类号: H05K3/10;H05K3/24;H05K1/02
代理公司: 福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙) 35212 代理人: 翁素华
地址: 350101 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜焊 断路 残缺 修补 方法 及其 结构
【权利要求书】:

1.一种铜焊盘断路或残缺修补方法,基于导电浆打底和电刷镀铜技术,它包括如下步骤:

001、在所需要修补的位置涂覆一层导电浆料,所述导电浆料热固化为导电浆层;

002、在所述的导电浆层上采用电刷镀技术,刷镀一层第一铜层;

003、在所述第一铜层上再采用硫酸铜溶液刷镀一层第二铜层。

2.根据权利要求1所述的一种铜焊盘断路或残缺修补方法,其特征在于:所述的导电浆料为碳浆,或金浆,或银浆,或铜浆,或银铜浆。

3.根据权利要求1所述的一种铜焊盘断路或残缺修补方法,其特征在于:所述步骤002的第一铜层为采用硝酸铜溶液进行电刷镀所得。

4.根据权利要求1所述的一种铜焊盘断路或残缺修补方法,其特征在于:所述的第二铜层占总修补厚度的1/4至1/2。

5.一种采用权利要求1所述铜焊盘断路或残缺修补方法的修补结构,其特征在于:它从内到外依次包括:一导电浆层;一第一铜层;一采用硫酸铜溶液电刷镀的第二铜层。

6.根据权利要求5所述的一种铜焊盘断路或残缺修补结构,其特征在于:所述导电浆层为碳浆层,或金浆层,或银浆层,或铜浆层,或银铜浆层。

7.根据权利要求5所述的一种铜焊盘断路或残缺修补结构,其特征在于:所述的第一铜层为采用硝酸铜溶液进行电刷镀所得。

8.根据权利要求5所述的一种铜焊盘断路或残缺修补结构,其特征在于:所述的第二铜层占总修补厚度的1/4至1/2。

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