[发明专利]曝光装置以及图像形成装置有效
申请号: | 201010268130.5 | 申请日: | 2010-08-25 |
公开(公告)号: | CN102004409A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 增田宪介 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G15/00;G02B7/02;B41J2/455 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 吕静姝;杨暄 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 以及 图像 形成 | ||
技术领域
本发明涉及曝光装置、以及使用该曝光装置的图像形成装置,如数码复印机、激光打印机、激光传真机等。
背景技术
近年来的复印机、激光打印机、以及传真装置等电子照相方式的图像形成装置利用以下方式进行图像形成,即将电子信息转变为光信息,用曝光装置将光信息作为潜像固定到感光体上,而后用调色剂等对被固定了的潜像进行显影,进行图像形成。该曝光装置有两种类型,一种为用光源和多角镜马达等的偏转器组合而成的光扫描装置,另一种为阵列光源装置,其线性排列发光元件,并在扫描方向对感光体表面一次性曝光。
相比于光扫描装置,对于阵列光源装置通常可列举出以下有利之处,(1)曝光装置体积小,(2)感光体表面上的光束直径小,(3)曝光装置寿命长。在此,(1)的曝光装置小型化与图像形成装置整体小型化有关,(2)的光束小径化与提高输出图像质量有关,(3)的寿命增长则与机器寿命的增加以及曝光装置的再利用有关。
另一方面,阵列光源装置的不利之处在于,焦点位置上的光束深度浅。具体来说,光扫描装置的光束深度(相当于最小光束直径的±10%的深度)为5mm左右,而阵列光源装置的深度更小,为±20~30μm。该光束深度的差异会造成焦点对环境变动(温度)许可程度上发生差异。尤其在阵列光源装置中,由于光源数量多,大约为光扫描装置的100至1000倍,作为曝光装置的发热量大,除了环境温度变动以外,其本身发热,引起光源装置发生热膨胀(热变形)。而如果光源装置发生热膨胀,则阵列光源与聚光透镜之间的距离发生变动,使得感光体上的光束直径变大(因聚焦位置偏离造成),由此引起发生图像劣化。
针对上述问题,例如专利文献1(JP特开2003-066306号公报)提出了对曝光装置内部温度引起的焦点位置偏离进行补偿的技术方案。
该专利文献1的曝光装置内部具有温度测定装置以及根据该温度测定装置的测定值调整聚焦位置的控制装置,并对温度变动引起的焦点偏离进行调整。但是,该构成存在问题,即曝光装置的元件数量增多,致使成本上升。
发明内容
针对上述现有技术中的问题,本发明提出以下技术方案,其目的在于提供一种曝光装置,该曝光装置可抑制环境变动,力图减少元件数量,降低成本,并且提供搭载该曝光装置的图像形成装置。
本发明具体如下。
(1)本发明的一个方面为,一种曝光装置,其中包括:光源元件,构成为按线性方向或二维方向排列多个发光元件;光源保持部件,用于保持该光源元件;光学元件,将该光源元件发射的光束会聚到像载置体上;光学元件保持部件,在该光源保持部件上保持该光学元件,使该光学元件与该光源元件之间保持预定间距;以及,定位部件,用于在该像载置体上支持该光源保持部件,使该光源保持部件上的光源元件与该像载置体之间保持预定距离,其特征在于,当从该光源元件的发光点位置观察时,该定位部件中用于支持该光源保持部件的支持位置位于该像载置体的相反侧。
(2)本发明的另一个方面为,根据上述(1)所述的曝光装置,其中,当设定所述光源保持部件的线膨胀系数为k1,并设定所述定位部件的线膨胀系数为k2时,k1<k2。
(3)本发明的另一个方面为,根据上述(2)所述的曝光装置,其中,当设定所述定位部件的线膨胀系数为k2,并设定所述光学元件保持部件的线膨胀系数为k3时,k3≤k2。
(4)本发明的另一个方面为,根据上述(1)所述的曝光装置,其中,当设定所述光源元件的光束发射表面与所述光学元件的光束入射表面之间的距离为L1,并设定在所述定位部件中,从该定位部件支持所述光源保持部件的支持位置、到光源元件的光束发射方向上的前端位置之间的距离为L2时,L2>L1。
(5)本发明的另一个方面为,根据上述(1)所述的曝光装置,其中,所述光源保持部件由一个或多个元件构成,所述定位部件直接支持在该光源保持部件中用于保持所述光源元件的部件上。
(6)本发明的另一个方面为,根据上述(1)所述的曝光装置,其中,用金属形成所述光源保持部件。
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