[发明专利]显影装置和图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201010266591.9 申请日: 2010-08-27
公开(公告)号: CN102193417A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 大场正太;稻叶繁;越智隆 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G15/09 分类号: G03G15/09;G03G15/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显影 装置 图像 形成 设备
【权利要求书】:

1.一种显影装置,该显影装置包括:

第一显影剂保持体,该第一显影剂保持体包括第一筒部件和第一磁体,所述第一筒部件面向旋转的潜像保持体的外周面布置,并旋转而使得该第一筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相反的方向,所述第一磁体布置在所述第一筒部件内,并产生在所述第一筒部件外沿周向分布的磁场,所述第一显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;

第二显影剂保持体,该第二显影剂保持体包括第二筒部件和第二磁体,所述第二筒部件面向所述潜像保持体的外周面布置,与所述第一显影剂保持体相比位于所述潜像保持体的旋转方向的下游侧,并且旋转而使得所述第二筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相同的方向,所述第二磁体布置在所述第二筒部件内,并产生在所述第二筒部件外沿周向分布的磁场,所述第二显影剂保持体保持所述显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;以及

调节机构,该调节机构调节所述第一磁体与所述第二磁体在周向上的相对位置。

2.如权利要求1所述的显影装置,其中,所述调节机构通过移动所述第一磁体侧来调节所述第一磁体和所述第二磁体在所述周向上的相对位置。

3.如权利要求1所述的显影装置,其中,在所述第一显影剂保持体面向所述第二显影剂保持体的位置,所述第一磁体的磁通密度为该第一磁体的最大磁通密度的预定比例的范围在所述周向上比所述第二磁体的磁通密度为该第二磁体的最大磁通密度的预定比例的范围窄。

4.如权利要求1所述的显影装置,其中,在所述第一磁体的面向所述潜像保持体的位置,所述第一磁体的磁通密度为该第一磁体的最大磁通密度的预定比例的范围在所述周向上比在所述第二磁体的面向所述潜像保持体的位置所述第二磁体的磁通密度为该第二磁体的最大磁通密度的预定比例的范围宽。

5.一种图像形成设备,该图像形成设备包括:

作为潜像保持体的感光体;

对所述感光体进行充电的充电单元;

曝光单元,该曝光单元在所述感光体的表面被充电之后对该表面进行曝光;

权利要求1至4中任一项所述的显影装置,该显影装置利用显影剂使通过所述曝光单元进行的曝光而在所述感光体上形成的潜像显影;以及

转印单元,该转印单元将由所述显影装置在所述感光体的表面上显影的显影剂图像转印到转印接收介质上。

6.一种显影装置,该显影装置包括:

第一显影剂保持体,该第一显影剂保持体包括第一筒部件和第一磁体,所述第一筒部件面向旋转的潜像保持体的外周面布置,并旋转而使得该第一筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相反的方向,所述第一磁体布置在所述第一筒部件内,并产生在所述第一筒部件外沿周向分布的磁场,所述第一显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;

第二显影剂保持体,该第二显影剂保持体包括第二筒部件和第二磁体,所述第二筒部件面向所述潜像保持体的外周面布置,与所述第一显影剂保持体相比位于所述潜像保持体的旋转方向的下游侧,并旋转而使得所述第二筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相同的方向,所述第二磁体布置在所述第二筒部件内,并产生在所述第二筒部件外沿周向分布的磁场,所述第二显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;以及

壳体,该壳体容纳所述第一显影剂保持体和所述第二显影剂保持体,所述第一磁体和所述第二磁体固定至该壳体,并且通过相对于该壳体旋转所述第一磁体和所述第二磁体中的至少一个,能够调节在周向上所述第一磁体与所述第二磁体的相对位置。

7.如权利要求6所述的显影装置,其中,所述第二磁体以固定方式安装至所述壳体,并且所述第一磁体与所述壳体的相对位置能够在周向上得以调节。

8.如权利要求7所述的显影装置,该显影装置还包括板部件,该板部件安装至所述壳体,并且能够相对于所述壳体在旋转方向上调节所述板部件的位置,其中所述第一磁体的轴部以固定方式安装至该板件。

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