[发明专利]纹路结构、具有纹路的滚轮及其形成方法无效

专利信息
申请号: 201010262541.3 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN102375333A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 曹纬腾;陈怡静;张家玮;张颖岳;丁启修;石嘉圣 申请(专利权)人: 华锦光电科技股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/09
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 董彬
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 纹路 结构 具有 滚轮 及其 形成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及纹路结构、具有纹路的滚轮及形成纹路滚轮的方法,尤其涉及一种光学纹路结构、具有光学纹路的滚轮及形成光学纹路滚轮的方法。

背景技术

传统有功能性的光学膜,最常见的做法,是于一金属滚轮上雕刻纹路,例如增亮纹、发丝纹的纹路。涂布UV胶于一卷带式膜料上,此具有UV胶表面的卷带式膜料与具有纹路的金属滚轮贴合以复制金属滚轮上的纹路,之后照射UV光于卷带式膜料以固化具有纹路的UV胶,然后分离收卷成有功能性的光学膜。

然而,对于无法使用机械式加工方法制作的纹路,如使用激光干涉条纹做曝光显影所制作的全息纹路,或是使用半导体制程所产生的纳米结构等,就不能直接制作于滚轮上。因此,电子纸产业的做法,一般先将平板的纹路,电铸成金属薄板,然后卷起后焊接、抛平,内部再电铸增厚以形成具有结构强度的滚轮。之后,进行UV翻制以转移纹路结构,但工序过长。其它的作法,可直接利用含纹路的软板,包覆于滚轮上,但接缝的结合处,存在高度的落差与潜在的不完美结合,且于UV复制过程中,可能产生脱落的UV胶细屑,这些脱落的UV胶细屑沾附于工作母版上造成产品不良。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是,针对现有技术存在的上述不足,提供一种纹路结构及具有纹路的滚轮,能够保证贴附后的纹路结构较为平坦,厚度均匀,且可与量产制程中固化的UV胶分离,避免产生脱落的UV胶细屑,可提高量产良率。

本发明另一要解决的技术问题是,针对现有技术存在的上述不足,提供一种能够减少贴附交接面的高度落差的形成纹路滚轮的方法。

本发明解决其技术问题采用的技术方案是提供一种纹路结构,其包含本体、位于该本体的一侧的附着表面以及位于该本体的另一侧与该附着表面相对的紫外光胶纹路表面;其中,该附着表面对于选自金属、合金、玻璃及石英的任一或结合为材料的元件具有附着性;固化后(cured)的该紫外光胶纹路表面对其他的紫外光胶具有离型性。

该本体的材料为紫外光胶。

所述纹路结构还包括覆盖于该紫外光胶纹路表面上的工作母版。

该工作母版包括基板,且该基板的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Poly-Carbonate,PC)或是甲基丙烯酸甲酯(Poly Methyl MethAcrylate,PMMA)。

该本体的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Poly-Carbonate,PC)、甲基丙烯酸甲酯(Poly Methyl MethAcrylate,PMMA)或是聚丙烯(Polypropylene)。

该附着表面为贴附于该本体的该侧的一部分或全部的附着膜。

该紫外光胶纹路表面包括全息(hologram)、柱状透镜式(lenticular lens)纹路或阵列结构。

本发明还提供一种具有纹路的滚轮,其包括滚轮以及纹路结构,其中,该滚轮具有以选自金属、合金、玻璃及石英的任一或结合为材料的一表面;该纹路结构覆盖于该滚轮的该表面上,该纹路结构包括本体、位于该本体的一侧的附着表面以及位于该本体的另一侧与该附着表面相对的紫外光胶纹路表面,其中,该附着表面对于该滚轮的该表面具有附着性,固化后的该紫外光胶纹路表面对其他的紫外光胶具有离型性。

该本体的材料为紫外光胶。

该纹路结构暴露部分该滚轮的该表面。

该本体包括基板,该基板的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Poly-Carbonate,PC)、甲基丙烯酸甲酯(Poly Methyl MethAcrylate,PMMA)或是聚丙烯(Polypropylene)。

该附着表面包括贴附于该基板的该侧的一部分或全部的双面胶。

该纹路结构暴露部分该滚轮的该表面,且紫外光胶填入该纹路结构中以覆盖该被暴露出的表面。

所述具有纹路的滚轮还包括覆盖于该紫外光胶纹路表面上的工作母版,且该工作母版对于该紫外光胶纹路表面具有离型性。

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