[发明专利]一种新型含POSS的纳米杂化增强剂的合成无效

专利信息
申请号: 201010260564.0 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN102372734A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 黄鹤;倪才华;戴锡禹 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: C07F7/21 分类号: C07F7/21;C08L63/02;C08K5/549
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 poss 纳米 增强 合成
【权利要求书】:

1.一种新型含POSS的纳米杂化增强物,其特征是通过如附图1所示的路线合成的星型化合物。化学结构为:笼型八聚-氨丙基硅倍半氧烷(POSS-NH2)与3-(N,N-二乙氨基)环氧丙烷的加成反应产物。该产物是一种纳米尺寸的无机/有机杂化物。

2.权利要求1所述的无机/有机杂化物的制备方法。其特征是以笼型八聚-氨丙基硅倍半氧烷和3-(N,N-二乙氨基)环氧丙烷为原料,按下述方法合成得到:笼型八聚-氨丙基硅倍半氧烷4.4g溶于80mL甲醇,然后在搅拌条件下缓慢滴加到装有12.9g的3-(N,N-二乙氨基)环氧丙烷的三口烧瓶中,升温至70℃,使反应体系处于回流状态,反应4小时后,停止反应,真空去溶剂,烘干,得到黄色粘稠液体。

3.权利要求1所述的纳米杂化增强物以20%比例添加到对环氧树脂E-51中,测得固化后环氧树脂的抗冲击强度,从改性前的15.9KJ/m2提高到改性后的59.5KJ/m2;抗拉伸强度从改性前的50Mpa提高到83Mpa;断裂伸长率从改性前的6.5%提高到40.2%。

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