[发明专利]等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置有效
| 申请号： | 201010255068.6 | 申请日： | 2010-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN102376520A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 汪明刚;刘杰;夏洋;李超波;陈瑶;赵丽莉;李勇滔 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 浸没 注入 离子 剂量 检测 控制 装置 | ||
1.一种等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述装置包括：
诊断单元，用于诊断等离子体特性参数；
分析单元，用于获得等离子体中粒子组分和各组分粒子含量；
与所述诊断单元和分析单元相连接的计算单元，用于根据所述等离子体特性参数以及所述等离子体中粒子组分和所述各组分粒子含量，计算得出注入工艺参数；
与所述计算单元相连接的控制单元，用于根据所述计算单元的输出信号以及注入工艺参数控制等离子体浸没注入机的注入工艺。
2.根据权利要求1所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述诊断单元诊断的等离子体特性参数包括等离子体离子密度、电子密度、等离子体电势与等离子体电子温度。
3.根据权利要求1所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述注入工艺参数为确定目标注入剂量下的注入工艺时间和确定注入工艺时间内的注入离子剂量。
4.根据权利要求1所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述计算单元包括注入时间计算模块以及注入剂量计算模块，所述注入时间计算模块根据利用准静态蔡尔德-朗缪尔鞘层理论计算出注入确定剂量的等离子体所需的时间；所述注入剂量计算模块根据利用准静态蔡尔德-朗缪尔鞘层理论计算出在确定是时间内注入的等离子体剂量。
5.根据权利要求4所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述控制单元根据所述计算单元的输出的注入剂量控制信号以及注入工艺参数控制等离子体浸没注入机的注入工艺。
6.根据权利要求4所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述控制单元根据所述计算单元输出的注入时间信号以及注入工艺参数控制等离子体浸没注入机的注入工艺。
7.根据权利要求1所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述诊断单元由蔡尔德-朗缪尔静电探针、波诊断仪、微波干涉仪中的一种或几种构成。
8.根据权利要求1所述的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置，其特征在于，所述分析单元采用质谱仪构成。
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