[发明专利]加工废液处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种加工废液处理装置，其附设于对半导体晶片等被加工物进行切削的切削装置等加工装置，用于对加工时供给的加工液的废液进行处理。

背景技术

在半导体器件制造工序中，在大致圆板形状的半导体晶片的表面通过呈格子状地排列的被称为间隔道的分割预定线划分出多个区域，在该划分出的区域中形成IC(Integrated Circuit：集成电路)、LSI(Large-scaleIntegration：大规模集成电路)等器件。然后，通过沿着间隔道将半导体晶片切断来分割形成有器件的区域，从而制造出一个个半导体器件。此外，在蓝宝石基板的表面层叠有氮化镓系化合物半导体等的光器件晶片也通过沿着间隔道切断而分割成一个个发光二极管、激光二极管等光器件，并广泛利用于电气设备。

上述的半导体晶片或光器件晶片等的沿着间隔道的切断通常利用被称作划片机的切削装置来进行。该切削装置具备：卡盘工作台，该卡盘工作台保持半导体晶片等被加工物；切削构件，该切削构件具备用于对由该卡盘工作台保持的被加工物进行切削的切削刀具；以及加工液供给构件，该加工液供给构件对切削刀具供给加工液，通过利用该加工液供给构件对旋转的切削刀具供给切削液来对切削刀具进行冷却，并且，在对由切削刀具切削的被加工物的切削部供给加工液的同时实施切削作业。

在以上述方式在切削时被供给的加工液中混有通过切削硅或氮化镓系化合物半导体而产生的切屑。由于混有由该半导体原材料构成的切屑的加工废液会污染环境，因此在采用加工废液处理装置除去了切屑之后进行再利用或者废弃(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2004-230527号公报

上述加工废液处理装置具备：废液收纳箱，该废液收纳箱用于收纳加工废液，该加工废液由利用切削装置进行加工时所供给的加工液通过加工而生成；废液输送泵，该废液输送泵用于输送收纳在该废液收纳箱内的加工废液；废液过滤构件，该废液过滤构件对利用所述废液输送泵输送来的加工废液进行过滤从而精制成清水；清水贮存箱，该清水贮存箱用于贮存利用所述废液过滤构件精制成的清水；清水输送泵，该清水输送泵用于输送贮存于所述清水贮存箱的清水；以及纯水生成构件，该纯水生成构件包括用于将利用所述清水输送泵输送来的清水精制成纯水的离子交换器。

在上述的加工废液处理装置的纯水生成构件中使用的离子交换器采用混合了阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混合树脂，然而存在寿命短因而不经济的问题。

发明内容

本发明就是鉴于上述事实而完成的，本发明的主要的技术课题在于提供一种能够延长在纯水生成构件中使用的离子交换器的寿命的加工废液处理装置。

为了解决上述主要的技术课题，根据本发明，提供一种加工废液处理装置，所述加工废液处理装置具备：废液收纳箱，该废液收纳箱用于收纳加工废液，该加工废液是利用加工装置进行加工时供给的加工液通过加工而生成的加工废液；废液输送泵，该废液输送泵用于对收纳于所述废液收纳箱的加工废液进行输送；废液过滤构件，该废液过滤构件对利用所述废液输送泵输送来的加工废液进行过滤以精制成清水；清水贮存箱，该清水贮存箱用于贮存利用所述废液过滤构件精制而成的清水；清水输送泵，该清水输送泵用于对贮存于所述清水贮存箱的清水进行输送；以及纯水生成构件，该纯水生成构件包括将利用所述清水输送泵输送来的清水精制成纯水的离子交换器，所述加工废液处理装置的特征在于，所述离子交换器具备壳体以及收纳在该壳体内的阴离子交换树脂层和混合树脂层，所述阴离子交换树脂层仅由阴离子交换树脂形成，所述混合树脂层是将阴离子交换树脂和阳离子交换树脂混合而成，在所述壳体设有清水流入构件和纯水流出构件，所述清水流入构件使清水流入所述阴离子交换树脂层，所述纯水流出构件使纯水从所述混合树脂层侧流出。

优选形成上述阴离子交换树脂层的阴离子交换树脂和形成上述混合树脂层的混合树脂的重量比设定成3∶2～4∶1。此外，形成上述混合树脂层的阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的重量比设定成3∶2。

构成本发明的加工废液处理装置的纯水生成构件的离子交换器由阴离子交换树脂层和混合树脂层形成，该阴离子交换树脂层仅由阴离子交换树脂形成，该混合树脂层中混合有阴离子交换树脂和阳离子交换树脂，并且，使清水从阴离子交换树脂层侧流入，使纯水从混合树脂层侧流出，因此能够有效地将通过对半导体进行切削或者磨削而生成的混有较多阴离子的废液转换成纯水，并且能够延长离子交换器的寿命。

附图说明

图1是表示根据本发明构成的加工废液处理装置与作为加工装置的切削装置相邻地配设的状态的立体图。