[发明专利]一种环境补偿对准系统

权利要求书

1.一种用于光刻设备的对准系统，包括：

提供对准照明光束的光源与照明模块；对对准标记进行成像的成像模块；参考光栅；采集透过参考光栅的光强信号并进行处理的信号采集处理模块；对准标记；承载硅片的工件台；运动台；采集承载硅片的工件台的位置信息，并与对准操作与管理模块进行同步谈判，规划运动轨迹，控制运动台的运动的位置采集与运动控制模块；和接收信号采集处理模块和位置采集与运动控制模块的信号的对准操作与管理模块，其特征在于：

还包括环境测量模块，所述的环境测量模块用于测量和采集对准衍射光束传播路线所处的环境变量，并将采集到的环境变量信息传输到对准操作与管理模块；所述的对准操作与管理模块利用光强数据、工件台位置数据和环境变量信息确定对准位置。

2.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于：所述的环境测量模块测量成像模块内部的环境变量变化，或测量成像模块与对准标记之间的环境变量变化，或二者均测量。

3.根据权利要求2所述的对准系统，其特征在于：所述的环境变量为影响对准衍射光束传播介质的折射率的环境变量中的一个或多个。

4.根据权利要求3所述的对准系统，其特征在于：所述的环境变量为温度、压力和湿度。

5.根据权利要求1-4中任意一个所述的对准系统，其特征在于：所述的对准操作与管理模块利用每一通道的光强数据和共用的工件台位置数据，经数据拟合，确定每一通道对准信号的一系列峰值。

6.根据权利要求5所述的对准系统，其特征在于：所述的对准操作与管理模块利用环境变量信息修正每一通道对准信号的一系列峰值。

7.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于：所述的修正方法采用环境变量-峰值位置偏移数学模型进行修正。

8.根据权利要求7所述的对准系统，其特征在于：所述的环境变量-峰值位置偏移数学模型为：

Δφ=f(λ,L,P,T,...,h,P0,T0,...,h0)ΔXi=SiΔφXpeak,i′=Xpeak,i+ΔXi]]>

式中，f(·)为相位偏移函数，Δφ为相位偏移，λ为对准照明波长，L为对准衍射光束传播光程差，P，T，...，h为压力、温度、…、湿度等各环境变量实测值，P₀，T₀，...，h₀为工作环境的参考值。S_i为第i通道对准信号的周期，ΔX_i为该信号峰值的位置偏差，X_peak，i为拟合获得的第i通道对准信号的一系列峰值位置，X′_peak，i为修正后的第i通道对准信号的峰值位置。