[发明专利]一种在PC树脂镜片上沉积DLC薄膜的制备方法无效
申请号: | 201010246958.0 | 申请日: | 2010-08-06 |
公开(公告)号: | CN101886252A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 成艳;魏世成;褚颖;郑玉峰 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/513;G02B1/04;G02B1/10 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pc 树脂 镜片 沉积 dlc 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种在PC树脂镜片上沉积DLC薄膜的制备方法,包括如下步骤:
1)以PC树脂镜片作为基体材料,用等离子体轰击基体;
2)采用PECVD技术在基体上沉积类金刚石薄膜,沉积过程中,碳源气体为氢气稀释的甲烷,Ar气作为辅助气体,沉积功率为60-200W,沉积时间为15-60min,获得沉积类金刚石薄膜的PC树脂光学镜片。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤2)中,碳源气体为氢气稀释的甲烷,甲烷的体积百分比浓度为50-100%。
3.如权利要求1所述的方法,其特征至于,步骤1)中,基体经过清洗,清洗操作包括:先在碱性溶液中浸泡30-60min,然后在去离子水中超声清洗,以除去PC基片表面的污染物,然后在50℃的烘箱中干燥10-20h。
4.如权利要求3所述方法,其特征在于,基体经过清洗后,进一步采用Ar气等离子体对基体轰击5-10min,功率为50-100W,Ar气流量为20-50ml/min。
5.如权利要求2所述的方法,其特征在于,甲烷的气体流量为5-50ml/min;氢气的气体流量为10-50ml/min。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,通入的辅助气体Ar气的流量为0-30ml/min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的