[发明专利]一种防旋流的方法有效
申请号: | 201010246676.0 | 申请日: | 2010-08-06 |
公开(公告)号: | CN102343244A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 方剑 | 申请(专利权)人: | 上海台界化工有限公司 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201507 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防旋流 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种防旋流的方法,尤其涉及一种防止化工反应器出口处产生旋流的方法,以及一种防旋流挡板的制作方法。
背景技术
容器作为现在生产和储存领域内一种最为常见设备,普遍存在于化工、新材料、水工程等领域。容器不管是用作反应设备、储存设备还是中间设备都会涉及液体输送过程,即将其中的液体物料转移到其他设施处的过程。如果容器内物料流速过快或者液位偏低,都有可能会产生旋流;尤其是容器的物料出口一般较小,导致流通面积的突然变化,也必然会产生涡流。
旋流现象给生产操作带来以下几个方面的不利影响:第一,可导致物料输送速度变慢;第二,液体物料输送过程中,有气体进入管道或者输送设备,使设备产生汽蚀现象,设备不能正常运转;第三,如果液体物料要在容器内进行外循环操作,旋流现象会导致该容器的输送设备最低启动物料量增大,导致生产效率降低,如果是聚合反应,则产品分子量也受到限制。
为了解决旋流现象带来的这一问题,人们对防旋流装置的研究和改进付出了很多努力,如中国专利CN1843567A公开的带防旋流板的进料分布器,包括了导流板、盖板、防旋流挡板以及拉筋等部件,通过阻止上升气流旋转,来达到防旋流的目的,但是该装置只用于气相或者气液两相的进料设备;另外中国专利ZL200920106797.8公开了一种液体储槽设备的防旋流装置,可阻止低液位情况下形成旋流、造成气体夹带进入液体中,该装置只在储槽设备中使用。
发明内容
本发明提供了一种防旋流的方法,通过在反应器出口处安装防旋流板的方法,解决了容器在液体输送过程中,由于输送量或者循环量过大、以及设备尺寸等原因而产生旋流现象。
本发明提供的防旋流的方法为在反应器出口处安装防旋流板;所述防旋流板的制作方法如下:
将各挡板的一端连接在同一个直立轴的不同方向,并使其呈放射状竖直排布;所述挡板与直立轴连接的一端形成固定端,另一端形成近釜端。
根据所述防旋流方法的一种优选实施方式,其中,将所述多块挡板的近釜端制成与反应器内壁相匹配的弧状。
根据所述防旋流方法的一种优选实施方式,其中,使所述挡板下侧高于所述近釜端的圆弧底端,以在挡板底侧形成与反应器出口相匹配的缺口。
根据所述防旋流方法的一种优选实施方式,其中,所述挡板高度为5~200cm。
根据上述防旋流方法的进一步优选实施方式,其中,所述防旋流板的制作方法中,在直立轴上连接3~16块挡板。
根据所述方法制作的防旋流板的使用方法如下:
将所述防旋流板安装在反应器出口处,并使挡板垂直与反应器底部;然后将挡板缺口与反应器底部出口相扣合,并使近釜端的圆弧与反应器内壁吻合接触。
本发明防旋流的方法制作了一种防旋流板并将其安装在反应器出口处,挡板将流动相均匀导向反应器底部,阻挡了流动相的旋转,从而达到防止旋流产生的目的。所述防旋流板制作简单,安装方便,并可根据反应器容积调整挡板数量和高度。
实验结果证明,本使用新型防旋流板可以提高稳定物料的输送量;避免输送泵产生的汽蚀现象;并避免了输送设备最低启动物料量增大,而导致的一系列问题。
附图说明
图1为本发明防旋流方法中制作的防旋流板的正视结构示意图;
图2为本发明防旋流方法中制作的防旋流板的俯视结构示意图;
图3为将所述防旋流板安装在反应器内后的结构示意图。
具体实施方式
参照图1、和图2,本发明防旋流方法中,防旋流板制作方法如下:
将各挡板1的一端连接在同一个直立轴2的不同方向,并使其呈放射状竖直排布;挡板1与直立轴2连接的一端形成固定端,另一端形成近釜端。
将多块挡板的近釜端制成与反应器内壁4相匹配的弧状,并使挡板1下侧高于近釜端的圆弧底端,以在挡板1底侧形成与反应器出口5相匹配的缺口3。
挡板1的的数量和高度可根据反应器容积进行调整,其中,挡板数量优选为3~16块,挡板高度优选为5~200cm。
参照图3,所制作的防旋流板的安装使用方法如下:
将所述防旋流板安装在反应器出口5处,并使挡板1垂直与反应器底部;然后将挡板缺口3与反应器底部出口5相扣合,并使近釜端的圆弧与反应器内2壁吻合接触。
以15立方米体积的外循环反应器为例,将所述防旋流板安装在反应器出口处,并使挡板垂直与反应器底部;然后将挡板缺口形状与反应器底部出口相扣合,并使近釜端的圆弧与反应器内壁吻合接触。
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