[发明专利]镀膜件及其制作方法无效
| 申请号： | 201010246160.6 | 申请日： | 2010-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102345089A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;陈晓强 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制作方法 | ||
1.一种镀膜件，包括一基材、一形成于基材表面的结合层，及一形成于结合层表面的复合层，其特征在于：所述复合层包括Cr-N层及Al-N层，该Cr-N层及Al-N的层数为多个，且该Cr-N层Al-N层交替排布。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述Cr-N层及Al-N层的层数分别为6-10层。
3.如权利要求2所述的镀膜件，其特征在于：所述每一Al-N层及每一Cr-N层的厚度均为40～150nm。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述结合层为一铝层，其厚度为50～300nm。
5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基材由金属材料或非金属材料制成。
6.如权利要求5所述的镀膜件，其特征在于：所述基材为铝或铝合金。
7.一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基材；
在该基材表面形成一结合层；
通过磁控溅射在结合层上形成一复合层，该复合层为沉积的Al-N层和Cr-N层，该Al-N层及Cr-N层的沉积次数为多次。
8.如权利要求7所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述Al-N层和Cr-N层以交替沉积的方式形成。
9.如权利要求8所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述交替沉积的次数为6-10次。
10.如权利要求7所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述磁控溅射以铝和铬为靶材，设置于基材的偏压为-100～-300V，以氮气为反应性气体，氮气的流量为10～150sccm，以氩气为工作气体，其流量为300～500sccm。
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