[发明专利]光学元件的制造方法及光学元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学元件的制造方法及光学元件。

背景技术

近年来，在光拾取装置等光学装置中，与以往的使用波长780nm左右的光源的CD、使用波长650nm左右的光源的DVD相比，为了进一步提高记录密度、使记录容量提高，开发出了一种与使用波长380～420nm的激光的蓝光光盘(以下有时也称为“BD”。)相对应的光学装置。

另一方面，用于这种光学装置的物镜、准直透镜这样的光学元件，与制造成本高的玻璃相比，期望通过可容易且低成本地制造的树脂来进行制造，其制造时为确保高透光率，多形成防反射膜。

但是，在树脂制的光学元件上形成防反射膜的情况下，由于该膜(主要是金属氧化物膜)一般是无机物，因此与以玻璃作为基材的情况相比，存在与作为基材的树脂的线膨胀系数的差变大、容易发生剥离或裂纹(出现裂缝)这样的问题。特别是将一般的用作抗氧化膜或硬涂层的SiO₂作为第1层使用的情况下，存在得不到与树脂的充分的密合性的问题。但是，从必要的光学特性上的必要性考虑，不希望使用的材料受到限制，期望解决对策。另外，作为光源使用380～420nm的激光，由于激光自身的能量导致的树脂基材自身的劣化、记录介质进一步高密度化，必然光学精度也需要提高，树脂的吸湿等导致的光学特性的变化也成为问题。

对此，在专利文献1的技术中，通过在丙烯酸类树脂的基材上形成2层的SiO层、同时使该2层叠加在一起的层厚度为400nm这样的较厚的厚度，使膜的密合性提高，同时提高膜的耐热性(对热的耐受性、抑制裂纹发生的特性)(参照第0048～0050段)，而且通过对膜中的特定的层进行离子镀覆，进行致密化而提高防反射特性(参照第0053、0060、0091、0092段)

专利文献1：特开2004-157497号公报

发明内容

发明要解决的课题

对专利文献1的技术进行了研究，结果，首先，由蓝色激光导致的树脂自身的劣化、吸湿导致的光学特性的变化成为问题。对于该问题，通过使用吸湿度低的具有脂环式结构的树脂作为树脂基材，可以一定程度地进行改善。另外，通过使用专利文献1中记载的SiO层，与以往的涂布SiO₂的情况相比，可以一定程度地使膜的密合性、耐热性、防反射特性提高。

但是，即使是形成了这种膜的光学元件，在作为使用了短波长的蓝色激光的高密度的光拾取装置的光学元件使用的情况下，判明如果长时间持续照射激光，则发生不可忽视的程度的光学特性的变化。而且，如果在采用专利文献1的技术的情况下长期使用，则产生设置于光学元件上的防反射膜自身的特性发生变化、安装于光拾取装置中后得不到充分的稳定性这样的问题。

上述问题中，与长时间照射激光时光学特性的变化相关的问题是，设置于树脂表面的SiO层对蓝色激光具有吸收特性，在被长时间照射的情况下，SiO层吸收激光的能量而产生热。而且认为，由于该产生的热，与SiO层接触的树脂基材在界面产生变形、变质、白浊等变化，特别是在要求精密的光学特性的高密度记录用的光拾取装置中成为问题。另一方面，查明作为在光拾取装置中安装光学元件后防反射膜的防反射特性不稳定的原因，是由于SiO层自身不稳定、因经时而吸收氧、光学特性发生变化。

因此，本发明的主要目的是，提供一种可以在使防反射膜等的功能膜树脂成形部的密合性、该功能膜的耐热性和光学特性提高了的情况下保持稳定、同时使耐光性提高的光学元件的制造方法及光学元件。

用于解决课题的手段

为解决上述课题，根据本发明的一个方式，

提供一种光学元件的制造方法，其为对于由具有脂环式结构的树脂构成的树脂成形部形成了功能膜的蓝光拾取用的光学元件的制造方法，其特征在于，具备以下工序：

对于所述树脂成形部，

以SiO作为蒸镀源、以规定压力导入O₂气、同时通过蒸镀处理形成第1SiO层的工序，

以SiO作为蒸镀源、以比形成所述第1SiO层的工序还低的压力导入O₂气、同时通过蒸镀处理形成第2SiO层的工序，和

氧化所述第1SiO层和所述第2SiO层的工序。

根据本发明的其它方式，可以提供一种光学元件，其特征在于，其是通过上述光学元件的制造方法而制造的。

发明的效果