[发明专利]一种氮化铝陶瓷基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010245192.4 申请日: 2010-07-30
公开(公告)号: CN102344281A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 周龙飞;林信平 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C04B35/10 分类号: C04B35/10;C04B35/622
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 陶瓷 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、配料:称取氮化铝陶瓷基板的原料,并混合均匀,所述原料包含氮化铝粉体、烧结助剂、以及有机互溶剂;

步骤2、混炼:将混合均匀的原料加入已经预热的混炼机中进行一次或多次混炼,制得混炼料;

步骤3、热压成型:将所述混炼料经造粒得到粒料,然后放入模具中通过热压成型的方法成型生坯;

步骤4、将热压成型的生坯进行排胶,去除生坯中的有机互溶剂,再将排胶后的坯件进行烧结。

2.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述混炼的条件:混炼机的预热温度为150℃±30℃,每次混炼的时间为30-90min。

3.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述热压成型是将粒料放入模具中,在150℃±30℃的温度,20±5Mpa的压力下进行热压。

4.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,

所述造粒是将混炼料在破碎机中进行破碎造粒;

所述排胶的条件:将热压成型的生坯置于排胶炉中,在空气气氛下,以1-3℃/min的升温速度升温至550℃±20℃,然后在550℃±20℃的温度下保温1-3h;

所述烧结的条件:将排胶后的坯件置于真空高温炉中,在惰性气氛的保护下,于1750℃-1850℃进行烧结,烧结时间为3-5h。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,以所述原料的总重量计,氮化铝粉体的含量为50wt%-70wt%,烧结助剂的含量为3wt%-5wt%,有机互溶剂的含量为25wt%-45wt%。

6.根据权利要求5中所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述氮化铝粉体的纯度在99%以上,平均粒径为1-2μm;所述烧结助剂选自氧化钇、氧化钙、氟化钙中的一种或几种。

7.根据权利要求5所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述有机互溶剂中含有聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物以及润滑剂,以所述有机互溶剂的总重量计,聚乙烯的含量为20-50wt%,乙烯-醋酸乙烯酯共聚物的含量为40-78wt%,润滑剂的含量为1-10wt%。

8.根据权利要求7所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述有机互溶剂还含有聚丙烯、石蜡、增塑剂、热塑性弹性体中的一种或几种,以所述有机互溶剂的总重量计,聚丙烯的添加量为0-10wt%,石蜡的添加量为0-30wt%,增塑剂的添加量为0-10wt%,热塑性弹性体的添加量为0-10wt%。

9.根据权利要求8所述的氮化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,所述润滑剂为硬脂酸,所述增塑剂为邻苯二甲酸二丁酯。

10.一种氮化铝陶瓷基板,其特征在于,采用如权利要求1-9任意一项的方法制得,包含氮化铝和烧结助剂。

11.根据权利要求10所述的氮化铝陶瓷基板,其特征在于,所述烧结助剂为氧化钇、氧化钙、氟化钙中的一种或多种;所述氮化铝和烧结助剂的重量比为:(50-70)∶(3-5)。

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