[发明专利]一种压电薄膜体声波谐振器无效
申请号: | 201010242364.2 | 申请日: | 2010-07-30 |
公开(公告)号: | CN101951238A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 汤亮;乔东海 | 申请(专利权)人: | 中国科学院声学研究所 |
主分类号: | H03H9/17 | 分类号: | H03H9/17 |
代理公司: | 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 | 代理人: | 杨小蓉;高宇 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压电 薄膜 声波 谐振器 | ||
1.一种压电薄膜体声波谐振器,由上至下包括:上层金属电极、压电薄膜、下层金属电极、支持薄膜和衬底,工作区由上层金属电极、压电薄膜和下层金属电极构成,所述的压电薄膜体声波谐振器通过对衬底进行硅体深刻蚀,使得支持薄膜的下表面与空气直接接触,将声波能量限制在工作区中;其特征在于,
所述的支持薄膜采用多层结构,包括:厚度为0.2μm~0.6μm的氮化硅层和厚度为0.2μm~0.8μm的二氧化硅层,其中,最下层为氮化硅层。
2.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的支持薄膜由上至下为三层,依次是氮化硅层、二氧化硅层和氮化硅层。
3.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的支持薄膜由上至下为两层,依次是二氧化硅层和氮化硅层。
4.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的衬底为硅衬底或砷化镓衬底。
5.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的上金属电极采用铝金属电极、钼金属电极,以铬作过渡层的金金属电极,以钛作过渡层的铂金金属电极,或是以铬作过渡层的铂金金属电极。
6.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的下金属电极采用铝金属电极、钼金属电极,以铬作过渡层的金金属电极,以钛作过渡层的铂金金属电极,或是以铬作过渡层的铂金金属电极。
7.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的压电薄膜为氮化铝压电薄膜或者氧化锌压电薄膜。
8.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的上层金属电极和下层金属电极的厚度均为0.1μm~0.6μm。
9.根据权利要求1所述的压电薄膜体声波谐振器,其特征在于,所述的压电薄膜的厚度为0.5μm~3μm。
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