[发明专利]玻璃基板用洗净液组成物有效
申请号: | 201010240948.6 | 申请日: | 2010-07-23 |
公开(公告)号: | CN102344858A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 谢依纯 | 申请(专利权)人: | 奇美实业股份有限公司 |
主分类号: | C11D1/66 | 分类号: | C11D1/66;C11D1/722;C11D3/60 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 基板用 洗净 组成 | ||
技术领域
本发明涉及一种洗净液组成物,特别是提供一种针对玻璃基板,具洗净力强、消泡性佳且不易侵蚀基板造成基板表面粗糙度增加的玻璃基板用洗净液组成物。
背景技术
目前,作为电视、个人电脑、钟表等物品的液晶显示用的玻璃基板,如钠钙玻璃、硼硅玻璃、硅玻璃、无碱玻璃等,可经熔融成形工程制得玻璃母板,并将玻璃母板切割成任意尺寸的玻璃基板以供使用。
另外,近年来常用于彩色液晶显示器、感测器及色分解装置等的彩色滤光片,其制法乃于透明玻璃基板上形成黑色矩阵及红、绿、蓝的画素画像,并使用分散颜料用的感旋旋旋旋光性树脂,以一般的光平板印刷(photolithography)制得。
然而,上述切割玻璃母板制作玻璃基板时,玻璃被切割所产生的切削粉(glass cullet)常附着于基板上而妨碍后续的精密的研磨工程、膜处理工程等。而于研磨工程后,所使用的研磨液(slurry)亦会残留于基板上造成污染。
因此,上述制造工程中导入了玻璃基板的洗净工程,而基板的制造及加工厂商为了提高制造良率,亦致力于洗净技术的提升。特别是近年来,对于制品高度信赖性的需求,以及彩色滤光片的高精度化的走向,玻璃基板清净化的要求变得愈来愈高。
为有效清除上述基板上残存的附着物,目前业界改善的方式,乃采用特定的洗净液组成物清洗玻璃基板,如日本特开2007-131819号公开特许公报所揭示,使用含烷基葡萄糖苷(alkyl glucoside)的洗净液组成物、日本特开2009-84565号公开特许公报所揭示,使用含非离子性界面活性剂、水、碱性化合物及苯磺酸、甲苯磺酸、二甲基苯磺酸或羟基苯磺酸等有机酸(或其盐类)的碱型非离子性界面活性剂组成物等。然而,使用前述两种洗净液组成物清洗玻璃基板时,除了洗净力不佳、消泡性不佳之外,尚有侵蚀基板造成表面粗糙等问题的发生。
发明内容
本发明主要目的在于提供一种洗净液组成物,特别是提供一种针对玻璃基板,具洗净力强、消泡性佳且不易侵蚀基板造成基板表面粗糙度增加的玻璃基板用洗净液组成物。
为满足前述目的,本发明一种玻璃基板用洗净液组成物包含:碱性化合物(A)、下列结构式(1)所表示的非离子性界面活性剂(B)、还原剂(C)以及水(D);
R1-O-(EO)m(PO)n-H 结构式(1)
式中,R1表示碳数6~20的含支链的烷基、烯基或酰基,或碳数12~20的含支链的烷基苯基;EO表示乙氧基(ethylene oxide);PO表示丙氧基(propylene oxide);m表示1~20的整数;n表示0~20的整数;(EO)m(PO)n之中,当n表示1~20的整数时,(EO)与(PO)的排列可为嵌段(block)或随机(random)。
以下逐一对本发明各组成做详细的说明。
[碱性化合物(A)]
本发明所使用的碱性化合物(A)包含无机碱性化合物(A-1)及/或有机碱性化合物(A-2)。
本发明的无机碱性化合物(A-1)的具体例,如:氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵等的碱金属氢氧化物;磷酸氢二铵、磷酸氢二钠、磷酸氢二钾、磷酸二氢铵、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾等的碱金属或铵的磷酸盐类;硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾等的碱金属硅酸盐类;碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾等的碱金属碳酸盐类;硼酸锂、硼酸钠、硼酸钾等的碱金属硼酸盐类。其中,以碱金属氢氧化物为较佳。上述的无机碱性化合物(A-1)可以单独一种使用或者混合复数种使用。
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