[发明专利]一种去除硼的硅提纯方法有效
申请号: | 201010240349.4 | 申请日: | 2010-07-26 |
公开(公告)号: | CN102344142A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 吴志能;司雷;沈益顺;彭少波 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
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地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 去除 提纯 方法 | ||
技术领域
本发明属于硅提纯技术领域,尤其涉及一种去除硅中硼的硅提纯方法。
背景技术
为了符合太阳能电池的需要,太阳能级硅中的硼含量必须小于0.3ppmw。
工业硅是太阳能级硅生产的重要原料,但其含有大量杂质元素,如Al、Ca、Fe、C、P、B等。其中尤其P、B很难去除,这是因为P、B在硅中的分凝系数分别为0.35、0.8,远远高于金属元素。对于P杂质,最有效的方法是利用P在真空下的蒸汽压随温度升高而很快增加的特点,采用真空冶炼法除磷。而真空冶炼法对于B杂质,基本没有效果。
目前去除硼的主要方法有:热等离子法、氧化造渣法、吹气精炼法等。该三种方法除硼的效果并不能满足太阳能级除硼的效果。
热等离子法一般是在熔融硅液表面上施加等离子体,该方法还具有设备复杂、耗电量高、成本高、材料消耗大、反应时间长、产量小等缺点。
氧化造渣法一般是在硅液中加入造渣剂,使B转入渣相,从而从硅中分离。一般的造渣剂为Na2CO3、CaO、CaCO3、CaF2、BaCO3、Ba(OH)2。但是,现有的氧化造渣法需要的造渣剂量很大,反应时间长且带入较多的其它杂质。
吹气精炼法一般为向硅液中通入混合气体,混合气体将硅液中B转化为可挥发去除的物质而达到去除目的。而吹气精炼则可以实现耗能少大产量化生产,但硅原料的损失量很大。
所以亟需研发一种新除硼方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:现有技术中硅中除硼的方法,硅原料损失大,能耗高、成本大、除硼效率差等问题;从而提供一种硅损失少、能耗低、除硼效率高的去除硼的硅提纯方法。
一种去除硼的硅提纯方法,其包括如下步骤:
(1)将原料硅加热熔融形成硅液,保持硅液温度在1600~1800℃,然后向硅液中通入混合气体和加入造渣剂,对硅液进行熔炼;
所述混合气体包括载体气体、氧气以及水蒸气;所述造渣剂为偏硅酸钠;
(2)将熔炼后的硅液,冷却铸锭,切除杂质富集部分。
本发明所提供的去除硼的硅提纯方法,使精炼时间大大缩短,并且硅原料的损失也大大减小,提高提纯硅的产率。提纯后的硅中硼含量低,除硼效率高。并且没有新的杂质引入,对于金属杂质也有一定的去除效果,进一步可以提高硅的纯度。本发明的方法所需设备简单,不需要等离子等高能设备,能耗低。
具体实施方式
为了使本发明所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
一种去除硼的硅提纯方法,其包括如下步骤:
(1)将原料硅加热熔融形成硅液,保持硅液温度在1600~1800℃,然后向硅液中通入混合气体和加入造渣剂,对硅液进行熔炼;
所述混合气体包括载体气体、氧气以及水蒸气;所述造渣剂为偏硅酸钠;
(2)将熔炼后的硅液,冷却铸锭,切除杂质富集部分。
其中,本发明除硼前的原料硅可以是2N~5N级。
本发明的原料硅优选工业级硅(2N级)。一般工业级硅中硼含量约为10~20ppmw。
本发明对于原料硅的形状没有限制,可以是硅粉也可以是硅块。
优选情况下,先将硅置于石墨坩埚的感应炉中,在感应炉功率为60~80KW下,加热使硅熔融形成硅液;然后将硅液转入石英坩埚中,加热到1600~1800℃。并对体系抽气减小压强。然后在熔炼过程中一直保持硅液的温度在此范围内。
其中,本发明混合气体中的载体气体作用是:稀释氧气以及水蒸气,可以增大混合气体的流量。
载体气体可以是各种惰性气体,例如氮气、0族气体。本发明优选氩气。
更优选情况下,混合气体中的各气体比例为:氩气、氧气以及水蒸气的体积比为93~60∶2~15∶5~35;更优选为80~65∶5~10∶15~30。
优选情况下,本发明采用多孔旋转喷嘴向硅液中通入混合气体。
在通入混合气体之前,优选将多孔旋转喷嘴在硅液表面进行预热,预热时间最好在4~6min。然后将预热好的多孔旋转喷嘴插入到硅液中,优选多孔旋转喷嘴插入到距离容器底部15~25mm的地方。
通气开始后,多孔旋转喷嘴的转速优选为200~500rad/min。
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