[发明专利]壳体及其制作方法有效
| 申请号： | 201010240082.9 | 申请日： | 2010-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102345093A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括一基体及一形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该抗指纹层为一金属氮氧化物层。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述金属氮氧化物为MxOy-N或MxOy-N--MexOy-N，其中M、Me选自为钛、铝、硅、铬及锆中的任一种，且M、Me不相同。
3.如权利要求2所述的壳体，其特征在于：所述M、Me选自为钛、硅、锆中的任一种时，所述y≥2x；所述M、Me选自为铝、铬中的任一种时，所述y≥1.5x。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述抗指纹层的厚度为100-500nm。
5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述抗指纹层为非晶态结构。
6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体由金属材料或非金属材料制成。
7.一种权利要求1-6中的任一项所述的壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用真空溅镀法在该基体的表面溅镀一抗指纹层，该抗指纹层为一金属氮氧化物层。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述真空溅镀法以钛、铝、硅、铬及锆中的任一种或两种为靶材，设置于基体的偏压为-100～-300V，镀膜温度为20～300，以氧气及氮气为反应性气体，氧气的流量为300～800sccm，氮气的流量为100～400sccm；以氩气为工作气体，其流量为300～500sc cm。
9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述制作方法还包括在溅镀抗指纹层前对基体进行前处理的步骤。
10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述前处理包括对基体进行超声波清洗及等离子清洗的步骤。
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