[发明专利]光刻设备和监控方法

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括辐射束监控设备，所述辐射束监控设备包括：

光学元件，所述光学元件被配置以产生衍射图案；和

成像检测器，所述成像检测器被设置在所述光学元件的后面，但不位于所述光学元件的焦平面中，使得所述成像检测器能够检测所述光刻设备的辐射束的空间相干性和发散度的综合结果。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述成像检测器被设置在所述光学元件的焦平面的前面。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述辐射束监控设备还包括分析器，所述分析器被配置以测量由所述成像检测器所检测到的图像的性质。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述分析器被配置以将所述测量的性质与阈值进行比较。

5.根据权利要求3或4所述的光刻设备，其中所述性质由下述方法中的一种来确定：

将所述检测到的图像与已有的图像进行反卷积，且测量所获得的轮廓的宽度，或

测量所述图像的对比度，或

将所述图像与已有的图像进行互相关，或

进行所述图像的网格变形拟合。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的光刻设备，其中所述分析器被配置以确定所述辐射束是否具有将可能损坏所述光刻设备的光学部件的空间相关性和发散度的综合结果。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述光学元件是透镜或针孔。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述光学元件和所述成像检测器之间的距离是所述光学元件和所述焦平面之间的距离的至少四分之一。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述成像检测器和所述焦平面之间的距离是所述光学元件和所述焦平面之间的距离的至少四分之一。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述成像检测器和所述焦平面之间的距离是所述光学元件和所述焦平面之间的距离的至少一半。

11.根据前述的权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述辐射束监控设备设置在所述光刻设备的照射器、所述光刻设备的束传递系统或所述光刻设备的源中。

12.根据前述的权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述光刻设备还包括照射模式选择器，所述照射模式选择器包括反射元件的阵列，所述反射元件能够用于将照射模式应用至所述辐射束。

13.一种监控方法，所述监控方法包括步骤：

使用光学元件和成像检测器，所述成像检测器不位于所述光学元件的焦平面中，以获得光刻设备的辐射束的图像，所述图像提供与所述辐射束的空间相干性和发散度的综合结果相关的信息。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述图像的性质被确定并与阈值进行比较。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述性质通过下述方法中的一种进行确定：

将所述检测的图像与已有的图像进行反卷积，且测量所获得的轮廓的宽度，或

测量所述图像的对比度，或

将所述图像与已有的图像进行互相关，或

进行所述图像的网格变形拟合。