[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种流体温度控制单元，包括：

加热器，配置用以加热在第一流体路径内的第一流体；

第一温度传感器，配置用以测量在所述第一流体路径内的所述第一流体的温度；

第二温度传感器，配置用以测量在第二流体路径内的第二流体的温度；和

控制器，配置成基于由所述第一传感器感测的温度和由所述第二传感器感测的温度控制所述加热器。

2.根据权利要求1所述的流体温度控制单元，其中所述控制器配置成基于由所述第一传感器感测的温度和由所述第二传感器感测的温度之间的差控制所述加热器。

3.根据权利要求1所述的流体温度控制单元，还包括在所述第一旁通回路中第二温度传感器上游的热交换器，其中所述热交换器配置成在第二流体路径中的第二流体和所述第一旁通回路中的第一流体之间交换热，使得在第一旁通回路中的第一流体达到与在第二流体路径中的第二流体的温度基本上相等的温度，使得通过测量所述热交换器下游的第一流体的温度，所述第二温度传感器测量在第二流体路径中的第二流体的温度。

4.一种浸没式光刻设备，包括投影系统和根据权利要求1-3中任一项所述的流体温度控制单元。

5.一种温度传感器校准单元，包括：

第一温度传感器，配置用以测量在第一流体路径中的第一流体的温度；

位于管道部内的第二温度传感器；

阀，配置用以选择性地切换第一流体从所述第一流体路径到所述管道部的流动或第二流体从第二流体路径到所述管道部的流动；和

计算单元，配置成当阀已经将第一流体从所述第一流体路径切换到所述管道部时，相对于所述第一温度传感器计算所述第二温度传感器中的校准温度误差，或反之亦然。

6.一种流体温度测量单元，包括：

第一温度传感器，配置成测量在第一流体路径中的第一流体的温度；

第二温度传感器，配置成测量在所述第一流体路径的旁通回路中的所述第一流体的温度；和

热交换器，位于第二温度传感器上游所述旁通回路中，用以在所述旁通回路中的第一流体和第二流体之间交换热。

7.一种控制在第一流体路径的流体出口处的流体的温度的方法，所述方法包括步骤：

测量在所述第一流体路径中的加热器下游的第一流体路径内的第一流体的温度；

测量在第二流体路径内的第二流体的温度；和

基于所述第一流体和所述第二流体的温度控制所述加热器，使得所述加热器加热所述第一流体以使其温度更接近所述第二流体的温度。

8.一种传感器校准的方法，所述方法包括步骤：

使用第一温度传感器测量在第一流体路径内的第一流体的温度；

使用第二温度传感器测量在管道部内的流体的温度；

将第一流体的流动从所述第一流体路径切换到所述管道部；和

基于来自所述第一和第二温度传感器的信号，相对于所述第一温度传感器计算在所述第二温度传感器中的校准温度误差，反之亦然。

9.一种测量在第二流体中的温度的方法，所述方法包括步骤：

在第一流体路径的旁通回路中设置温度传感器；和

在温度传感器的上游所述旁通回路中设置热交换器，用于在所述旁通回路内的第一流体和所述第二流体之间交换热。

10.一种器件制造方法，包括将图案化辐射束通过液体投影到衬底上，并且还包括根据权利要求7-9中任一项所述的方法，其中所述液体是第一流体。