[发明专利]一种低损耗介质加载型表面等离子激元光波导无效

专利信息
申请号: 201010238680.2 申请日: 2010-07-28
公开(公告)号: CN102169205A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 郑铮;卞宇生;刘娅;朱劲松 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G02B6/10 分类号: G02B6/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 损耗 介质 加载 表面 等离子 激元光 波导
【权利要求书】:

1.一种同时具备低传输损耗和较强场约束能力的介质加载型表面等离子激元光波导结构,其横截面包括金属基底层、位于金属基底层上的高折射率介质区域、被高折射率介质区域和金属基底层包围的低折射率介质区域、以及包层;其中,高折射率介质区域的宽度范围为所传输光信号的波长的0.06-0.4倍,高度范围为所传输的光信号的波长的0.06-0.4倍,低折射率介质区域与金属基底层相接,且低折射率介质区域的宽度范围为所传输光信号的波长的0.01-0.39倍,高度范围为所传输的光信号的波长的0.01-0.3倍;高折射率介质的材料折射率高于低折射率介质以及包层的材料折射率,低折射率介质和包层的材料可为相同材料或不同材料,低折射率介质和包层的材料折射率的最大值与高折射率介质的材料折射率的比值小于0.75。

2.根据权利要求1所述的光波导结构,其特征在于,所述结构中金属层的材料为能产生表面等离子激元的金、银、铝、铜、钛、镍、铬中的任何一种、或是各自的合金、或是不同金属层复合的材料。

3.根据权利要求1所述的光波导结构,其特征在于,所述结构中高折射率介质区域与低折射率介质区域共同构成的区域的截面的外轮廓形状为正方形、矩形、或梯形中的任何一种。

4.根据权利要求1所述的光波导结构,其特征在于,所述结构中低折射率介质区域的截面的形状为正方形、矩形、圆形、椭圆形或梯形中的任何一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010238680.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top