[发明专利]一种太阳能电池无效
| 申请号: | 201010236617.5 | 申请日: | 2010-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN101908569A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
| 发明(设计)人: | 赵一辉;贺方涓 | 申请(专利权)人: | 河南阿格斯新能源有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 陈浩 |
| 地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 太阳能电池 | ||
技术领域
本发明属于光伏太阳电池技术领域,具体涉及一种太阳能电池。
背景技术
CIGS是铜铟镓硒太阳能电池的缩写,由CIGS和a-Si薄膜电池组成的串联电池由于具有效率高、生产过程易于操作和改进等优点,从开始出现就引起了人们的极大关注。在公开号为6368892的美国专利中公开了一种CIGS和a-Si薄膜电池串联组成的多结太阳电池,其结构为:衬底层/背电极层/CIS(或CIGS)层/n型导电层/P-I-N结层/前电极层。但是现有a-Si/CIGS串联多结层太阳能电池的模组设计还不够合理,其目前的光电转换效率只有10%左右。
发明内容
本发明的目的是提供一种高效率、低成本的太阳能电池。
为了实现以上目的,本发明所采用的技术方案是:一种太阳能电池,包括衬底层、设置在衬底层上的背电极层、TCO层和设置在背电极层与TCO层之间的太阳能电池模组,所述太阳能电池模组包括一个铜铟镓硒P-N结层和一个非晶硅P-I-N结层,所述铜铟镓硒P-N结层的P型铜铟镓硒薄膜层与所述背电极层之间设置有重掺杂的P+层,所述铜铟镓硒P-N结层的N型铜铟镓硒缓冲层与所述非晶硅P-I-N结层的P型非晶硅层之间设置有重掺杂的N+层,所述非晶硅P-I-N结层的N型非晶硅层与所述TCO层相邻设置,该太阳能电池的结构为:衬底层/背电极层/P+层/P型铜铟镓硒薄膜层/N型铜铟镓硒缓冲层/N+层/P型非晶硅层/I型非晶硅层/N型非晶硅层/TCO层。
进一步地,N型铜铟镓硒缓冲层与N+层之间设置有导电层。
导电层为n-ZnO:Al层,n-ZnO:Al层的厚度为50nm~150nm。
非晶硅P-I-N结层的厚度为100nm~360nm。
非晶硅P-I-N结层中P型非晶硅层、I型非晶硅层和N型非晶硅层的厚度比为:P型非晶硅层:I型非晶硅层:N型非晶硅层=(1~2):(10~15):(2~4)。
重掺杂的P+层的厚度为5nm~50nm。
重掺杂的P+层中电荷载子的密度为1020 g /cm3~1021 g /cm3。
重掺杂的N+层的厚度为5nm~50nm。
重掺杂的N+层中电荷载子的密度为1021 g /cm3~1022 g /cm3。
铜铟镓硒P-N结层中P型铜铟镓硒薄膜层的厚度为1.0um~2.5um。
铜铟镓硒P-N结层中N型铜铟镓硒缓冲层的厚度为50nm~200nm。
铜铟镓硒P-N结层中N型铜铟镓硒缓冲层的材料为ZnS、ZnSe或ZnIn2Se3。
本发明薄膜太阳能电池的非晶硅P-I-N结层厚度设计合理,近红外光谱能量能够被铜铟镓硒P-N结层充分吸收,因此本发明提供的薄膜太阳能电池的功率大大提高。另外,在铜铟镓硒P-N结层的P型铜铟镓硒薄膜层与背电极层之间设置有重掺杂的P+层,在铜铟镓硒P-N结层的N型铜铟镓硒缓冲层与非晶硅P-I-N结层的P型非晶硅层之间设置有重掺杂的N+层,增强了载体在光伏组件中的漂流速度与流通量,提高了薄膜太阳能电池的功率。本发明提供的薄膜太阳能电池所产生的功率较目前同类型双结层结构的薄膜太阳能电池平均高出约1.5%,转换效率可达到11.5%以上。本发明提供的薄膜太阳能电池还具有可靠性高和制造价格低等优点。
附图说明
图1为本发明一种实施例的结构示意图;
图2为本发明另一种实施例的结构示意图;
图3为实施例1的能量频带曲线图。
具体实施方式
实施例1
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





