[发明专利]镀膜装置及镀膜方法无效
申请号: | 201010234426.5 | 申请日: | 2010-07-20 |
公开(公告)号: | CN101962749A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 松浦宏育;土井秀明;加藤升;韭泽信广 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/12;H05B33/10 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 装置 方法 | ||
1.一种镀膜装置,具有真空蒸镀室,该真空蒸镀室具备使蒸发源移动的蒸发源移动机构,所述蒸发源使蒸发源内部所具有的蒸发材料蒸发或升华,从所述蒸发源的多个喷嘴喷出而蒸镀到基板上,镀膜装置的特征在于,
所述真空蒸镀室具有喷嘴清理机构,喷嘴清理机构具备去除在所述喷嘴或喷嘴附近析出的析出蒸发材料的清理部。
2.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,
所述真空蒸镀室具有使所述蒸发源或所述清理部中至少一方移动的移动机构。
3.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,
所述移动机构是使所述清理部向所述喷嘴移动的清理部移动机构。
4.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,
所述移动机构是使所述喷嘴移动到所述清理部的第二蒸发源移动机构。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的镀膜装置,其特征在于,
所述清理部具有去除所述析出蒸发材料的析出蒸发材料去除体。
6.根据权利要求5所述的镀膜装置,其特征在于,
所述析出蒸发材料去除体是在内部具有加热器,且使所述析出蒸发材料蒸发或升华而去除的加热体。
7.根据权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,
所述加热体为加热块部件。
8.根据权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,
所述加热体具有块部件、和一体设置或固定设置于所述块部件上且可插入所述喷嘴的喷嘴内去除部,所述喷嘴清理机构具有将所述喷嘴内去除部插入所述喷嘴的喷嘴插入驱动部。
9.根据权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,
所述加热体具有可插入所述喷嘴的喷嘴内去除部,所述喷嘴清理机构具有将所述喷嘴内去除部插入所述喷嘴的喷嘴插入驱动部。
10.根据权利要求8所述的镀膜装置,其特征在于,
所述清理部移动机构是使所述喷嘴插入驱动部与所述清理部一体移动的机构,所述喷嘴插入驱动部内装于内部为空气环境的箱,所述箱连接于内部为中空的被真空密封的联杆机构的一端,所述联杆机构的另一端向空气环境开放,所述喷嘴插入驱动部通过设于所述箱的真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。
11.根据权利要求9所述的镀膜装置,其特征在于,
所述清理部移动机构是使所述喷嘴插入驱动部与所述清理部一体移动的机构,所述喷嘴插入驱动部内装于内部为空气环境的箱,所述箱连接于内部为中空的被真空密封的联杆机构的一端,所述联杆机构的另一端向空气环境开放,所述喷嘴插入驱动部通过设于所述箱的真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。
12.根据权利要求8所述的镀膜装置,其特征在于,
所述析出蒸发材料去除体具有与分布于所述蒸发源的长度方向的喷嘴的范围大致相同的长度,具有使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源的任何一方移动以使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源与所述喷嘴正对的正对移动机构。
13.根据权利要求9所述的镀膜装置,其特征在于,
所述析出蒸发材料去除体具有与分布于所述蒸发源的长度方向的喷嘴的范围大致相同的长度,具有使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源的任何一方移动以使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源与所述喷嘴正对的正对移动机构。
14.根据权利要求8所述的镀膜装置,其特征在于,
在一端向空气开放且另一端具有真空密封部的空气环境空间内部,设置所述喷嘴插入驱动部的至少一部分,所述喷嘴插入驱动部通过所述真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。
15.根据权利要求9所述的镀膜装置,其特征在于,
在一端向空气开放且另一端具有真空密封部的空气环境空间内部,设置所述喷嘴插入驱动部的至少一部分,所述喷嘴插入驱动部通过所述真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。
16.根据权利要求4所述的镀膜装置,其特征在于,
所述真空蒸镀室具有向多个所述基板蒸镀的多个蒸镀处,所述第二蒸发源驱动机构是使蒸发源在所述多个蒸镀处之间移动的机构。
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