[发明专利]光刻装置

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

位于基底台上的传感器，所述传感器被投影光束照射；以及

位于传感器和基底台之间的液体密封结构；

其中所述液体密封结构具有双层，其中顶层用作液体阻挡部分而底层用作不透液体的密封；

所述底层具有密封结构，所述密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。

2.如权利要求1所述的光刻装置，还包括位于所述底层上方的低压入口。

3.如权利要求1或2所述的光刻装置，其中所述顶层为布置在所述底层上方在传感器的边缘与基底台的边缘之间的间隙，使得从基底台顶部到所述底层的通路是曲折的。

4.如权利要求1到3中任一所述的光刻装置，还包括：

配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及

配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。

5.如权利要求1到5中任一所述的光刻装置，其中所述传感器是传输图像传感器、光点传感器或积分透镜干涉仪。

6.一种光刻装置，包括：

位于基底台上的传感器，所述传感器被投影光束照射；以及

位于传感器和基底台之间的液体密封结构，通过粘合剂所述液体密封结构在其各个端部与基底台和传感器固定，使得所述液体密封结构在其各个端部能够承受小的枢转运动。

7.如权利要求6所述的光刻装置，其中传感器的边缘和基底台的边缘具有布置在密封结构上方的互补联锁台阶，使得从基底台顶部到液体密封结构的通路是曲折的。

8.如权利要求6或7所述的光刻装置，还包括位于所述液体密封结构上方的低压入口。

9.如权利要求6到8中任一所述的光刻装置，还包括：

配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及

配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。

10.如权利要求6到9中任一所述的光刻装置，其中所述传感器是传输图像传感器、光点传感器或积分透镜干涉仪。