[发明专利]光发射装置与使用该装置的发光二极管印表头无效
| 申请号： | 201010232985.2 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102336067A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 吴明哲 | 申请（专利权）人： | 环旭电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/45 | 分类号： | B41J2/45 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 薛琦;朱水平 |
| 地址： | 201203 上海市张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发射 装置 使用 发光二极管 表头 | ||
1.一种光发射装置，其特征在于，该光发射装置包括：
一印刷电路板；
一第一反射结构，设置在该印刷电路板上，该第一反射结构具有一第一反射面；
一第二反射结构，设置在该印刷电路板上，该第二反射结构具有一第二反射面；
一透镜阵列，设置在该印刷电路板上，该透镜阵列位于该第一反射面与该第二反射面之间；
至少一光源，设置在该印刷电路板上并位于该第一反射面与该透镜阵列之间；以及
一上壳体，设置在该第一反射结构、该透镜阵列及该第二反射结构上，该上壳体具有一透光区，该透光区的位置对应于该第二反射面。
2.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该第一反射面反射该光源所发出的光线，该透镜阵列将该第一反射面所反射的光线引导至该第二反射面，该第二反射面所反射的光线则通过该透光区。
3.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该些光源位于该第一反射面在该印刷电路板的一正投影区域中。
4.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该透光区位于该第二反射面在该上壳体的一正投影区域中。
5.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该第一反射结构及该第二反射结构均为硅光学平台。
6.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该第一反射面与该印刷电路板的夹角实质上为45度，且该第二反射面与该第一反射面平行。
7.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该些光源包括至少一发光二极管阵列。
8.如权利要求1所述的光发射装置，其特征在于，该透镜阵列为一自聚焦透镜阵列。
9.一种发光二极管印表头，其特征在于，该发光二极管印表头包括：
一壳体；以及
至少一光发射装置，设置于该壳体中，其中每个该光发射装置包括：
一印刷电路板；
一第一反射结构，设置在该印刷电路板上，该第一反射结构具有一第一反射面；
一第二反射结构，设置在该印刷电路板上，该第二反射结构具有一第二反射面；
一透镜阵列，设置在该印刷电路板上并位于该第一反射面与该第二反射面之间；
一发光二极管阵列，设置在该印刷电路板上并位于该第一反射面与该透镜阵列之间；以及
一上壳体，设置在该第一反射结构、该第二反射结构及该透镜阵列上，该上壳体具有一透光区，该透光区对应于该第二反射面。
10.如权利要求9所述的发光二极管印表头，其特征在于，该第一反射面与该印刷电路板的夹角实质上为45度，且该第一反射面与该第二反射面平行。
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