[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，其包括一基体，其特征在于：所述壳体还包括依次形成于基体表面的一二氧化硅薄膜及一氧化锌薄膜，所述二氧化硅薄膜具有微米量级的结构，所述氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜的表面粗糙度大小为微米级。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氧化锌薄膜的表面具有纳米级的氧化锌棒阵列。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜与氧化锌薄膜的总厚度在1微米以下。

5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜与氧化锌薄膜的总厚度为0.1～0.5微米。

6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体由金属材料或非金属材料制成。

7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

采用溶胶法在该基体的表面形成一二氧化硅薄膜，该二氧化硅薄膜具有微米量级的结构；

采用真空溅镀法在该二氧化硅薄膜表面形成一氧化锌薄膜，该氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。

8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成所述二氧化硅薄膜包括如下步骤：制备一溶胶，该溶胶中含有正硅酸乙酯；以浸渍提拉法于基体表面附着一溶胶层；对该溶胶层进行热处理以制得所述二氧化硅薄膜。

9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述溶胶中还含有乙醇、盐酸及去离子水。

10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述正硅酸乙酯、乙醇、盐酸及去离子水的体积比为1～5∶1∶0.01～0.05∶1～25，所述盐酸为质量百分含量为36.5％的盐酸。

11.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述热处理的温度为200～400℃。

12.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述真空溅镀法以锌为靶材，设置于该靶材的偏压为-100～-300V，镀膜温度为20～300℃，以氧气为反应性气体，其流量为20～300sccm；以氩气为工作气体，其流量为100～400sccm。