[发明专利]可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场

权利要求书

1.一种可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，包括炉腔(1)、炉腔(1)内具有保温筒(2)、热屏装置和坩埚(3)，保温筒(2)包围在坩埚(1)外侧，热屏装置盖设在保温筒(2)上形成封闭式热场，通入炉腔(1)上部的保护气体通过热屏装置向下进入坩埚(3)，然后通过热屏装置与坩埚(3)之间的间隙向上流动进入热屏装置与保温筒(2)所围形成的保温腔，其特征是：在所述的热屏装置上开设导气孔(4)，保护气体直接通过导气孔(4)进入保温腔上部，导气孔(4)的两端开口高于坩埚(3)上沿。

2.根据权利要求1所述的可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，其特征是：所述的热屏装置包括热屏支撑板(5)和架设在热屏支撑板(5)上的热屏(6)，导气孔(4)设置在热屏(6)上。

3.根据权利要求2所述的可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，其特征是：所述的导气孔(4)位于热屏(6)的上部，并且沿热屏(6)圆周均匀分布，所有导气孔(4)与热屏(6)上沿的距离相等。

4.根据权利要求2或3所述的可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，其特征是：所述的导气孔(4)与热屏(6)上沿的距离为30～50mm；导气孔(4)为圆形或多边形，流通面积为20-50mm²；导气孔(4)的个数为6～36个。

5.根据权利要求1所述的可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，其特征是：所述的热屏装置包括热屏支撑板(5)和架设在热屏支撑板(5)上的热屏(6)，导气孔(4)设置在热屏支撑板(5)上。

6.根据权利要求5所述的可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场，其特征是：所述的导气孔(4)沿热屏支撑板(5)圆周均匀分布。