[发明专利]一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法无效
| 申请号： | 201010232465.1 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102336860A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 方国臻;王俊平;殷慧龄;潘明飞;王硕 | 申请（专利权）人： | 天津科技大学 |
| 主分类号： | C08F220/06 | 分类号： | C08F220/06;C08F222/14;C08F2/44;C08J9/26;B01J20/30;B01J20/26;B01J20/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 天津市天津经济技术开发区十三大*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 亚胺 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)将模板分子即亚胺硫磷、功能单体甲基丙烯酸和交联剂三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸甲酯按照摩尔比例为1∶4∶4溶解到致孔剂中，加入引发剂偶氮二异丁腈；
2)缓慢通入氮气15min，在氮气保护下将瓶密封，60℃水浴保温24h得到反应产物，将其粉碎、过筛除去微细的颗粒；
3)经过体积比为9∶1的甲醇-冰乙酸混合溶液索氏提取48h，进一步除去模板分子亚胺硫磷；
4)将除去模板分子的聚合物在60℃真空干燥，得亚胺硫磷分子印迹聚合物。
2.根据权利要求1所述的一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：当模板分子的物质的量为0.001mol时，所述的致孔剂的体积为4mL。
3.根据权利要求1所述的一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：所述的致孔剂成分为四氢呋喃和甲苯混合溶液，体积比例为3∶1。
4.根据权利要求1所述的一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：所述的模板分子、功能单体和交联剂的摩尔比例为1∶4∶4。
5.根据权利要求1所述的一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：所述的索氏萃取溶剂为甲醇与冰乙酸的混合液，体积比为9∶1。
6.根据权利要求1所述的一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：所述的索氏萃取时间为48h。
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