[发明专利]一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：在吸热体基底表面自下至上依次为红外反射层、吸收层和减反射层；

该红外反射层，由100-300nm厚的钼、钼合金、镍、镍铝合金、钨、钨合金、钛及钛合金中的一种或几种金属膜构成；以相应的金属作为靶材，采用直流溅射方法，以氩气作为溅射气体制备；

该吸收层，其成分由镍铝合金颗粒和绝缘介质构成的复合金属陶瓷层组成，该绝缘介质采用：氧化铝、氮化铝、氮化硅、氧化硅、镍铝合金的氮氧化物中的一种或几种；其结构由厚度和AlNi体积百分含量各不同的两亚层构成，第一亚层的厚度为35-70nm，AlNi体积百分含量为40％-60％，第二亚层的厚度为30-60nm，AlNi体积百分含量为20％-40％；

该减反射层，其厚度为40-80nm，采用氧化铝、氮化铝、氮化硅和氧化硅中的一种或几种制成；溅射气体为氩气，采用相应的铝，氧化铝，氮化铝，硅，氮化硅，氧化硅靶材中的一种或几种射频溅射或者直流反应溅射制备该涂层。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：该吸热体基底为铜和不锈钢材料中的一种。

3.一种太阳能选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于：该方法具体步骤如下：

步骤一：选铜和不锈钢材料中的一种作为吸热体基底，采用磁控溅射镀膜仪制备红外反射层，由100～300nm厚的钼、钼合金、镍、镍铝合金、钨、钨合金、钛及钛合金中的一种或几种金属膜构成；以相应的金属作为靶材采用直流溅射方法，以氩气作为溅射气体制备，制备过程中溅射功率为2.5w/cm²，溅射气压为0.7pa，氩气流量为50sccm；

步骤二：采用磁控溅射镀膜仪制备吸收层，其成分由镍铝合金颗粒和绝缘介质构成的复合金属陶瓷层组成，绝缘介质采用：氧化铝、氮化铝、氮化硅、氧化硅、镍铝合金的氮氧化物材料中的一种或几种组成，金属陶瓷层采用镍铝合金靶和相应的氧化铝、氮化铝、氮化硅、氧化硅、镍铝合金的氮氧化物介质靶中的一种或几种，采用共溅射的方法制备；其结构由厚度和AlNi体积百分含量各不同的两亚层构成，第一亚层的厚度为35～70nm，AlNi体积百分含量为40％～60％，第二亚层的厚度为30～60nm，AlNi体积百分含量为20％～40％，制备过程中溅射气压为0.7pa，氩气流量为50sccm；

步骤三：采用磁控溅射镀膜仪在吸收层之上制备厚度为40-80nm的减反射层，该减反射层，采用氧化铝、氮化铝、氮化硅、氧化硅中的一种或几种组成；溅射气体为氩气，采用相应的铝，氧化铝，氮化铝，硅，氮化硅，氧化硅靶材中的一种或几种，采用射频溅射或者直流反应溅射制备该层，制备过程中溅射功率为5w/cm²溅射气压为1pa，氩气流量为50sccm。