[发明专利]一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法

权利要求书

1.一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法，其特征是包括如下步骤和工艺条件：

第一步、以质量份数计，取20-40份环氧树脂，加入4-25份固化剂，20-45份磨料，8-15份稀释剂，2-8份增韧剂，1-3份硅烷偶联剂，3-8份辅助材料，混合均匀，得到油相浆料；其中，固化剂为聚酰胺、芳香胺和/或酸酐，所述酸酐为甲基四氢邻苯二甲酸酐或甲基六氢邻苯二甲酸酐；磨料为碳化硅、海南砂、白刚玉和/或纳米二氧化硅；稀释剂为工业乙醇、碳酸二甲酯和/或丙酮；增韧剂为反应型环氧增韧剂、端羧基液体丁腈橡胶和/或端羟基聚丁二烯液体橡胶；硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷和/或γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷；辅助材料为促进剂2，4，6-三(二甲胺基甲基)苯酚DMP-30、蜡粉、石墨、颜料、硬脂酸镁和/或硬脂酸锌；

第二步、将第一步得到的油相浆料加入到喷涂机中，在室温下对不织布的正反两面进行喷涂，喷涂量为不织布重量的20％-40％；所述不织布为PET型、PP型或PE型不织布；

第三步、将第二步得到的喷涂后的多块不织布叠加到8-12cm的厚度，然后放在室温下压至3-6cm，取出不织布，将其放在烘箱中，85-90℃下烘2-3小时，再放在室温下1-2天，最后用冲床冲压，制得抛光轮。

2.根据权利要求1所述的一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法，其特征在于所述聚酰胺为聚酰胺651、聚酰胺650、聚酰胺200或聚酰胺400；所述芳香胺为4，4′-二氨基二苯基甲烷、二氨基二苯基砜或间苯二胺。

3.根据权利要求1所述的一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法，其特征在于所述不织布的密度为50-250g/cm³。

4.根据权利要求1所述的一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法，其特征在于所述蜡粉的粒径为0.5-70μm。

5.根据权利要求1所述的一种高耐磨的不织布抛光磨具的制备方法，其特征在于所述的碳化硅、海南砂、白刚玉的粒径为200-1800目，所述纳米二氧化硅的粒径为20-350nm。